光(guang)(guang)學(xue)測(ce)(ce)厚(hou)方法(fa)(fa)(fa)(fa)集光(guang)(guang)學(xue)、機(ji)械、電子、計算機(ji)圖(tu)像處理技術為(wei)(wei)一體，以其光(guang)(guang)波長為(wei)(wei)測(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)基準，從原(yuan)理上(shang)保證了(le)納米(mi)級的(de)測(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)精(jing)度。同時，光(guang)(guang)學(xue)測(ce)(ce)厚(hou)作(zuo)為(wei)(wei)非接觸(chu)式的(de)測(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)方法(fa)(fa)(fa)(fa)，被廣泛應用于精(jing)密元件表(biao)面形貌(mao)及(ji)厚(hou)度的(de)無損測(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)。其中(zhong)，薄(bo)膜(mo)厚(hou)度光(guang)(guang)學(xue)測(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)方法(fa)(fa)(fa)(fa)按光(guang)(guang)吸收、透反射、偏振和(he)干(gan)(gan)涉(she)等(deng)光(guang)(guang)學(xue)原(yuan)理可(ke)分為(wei)(wei)分光(guang)(guang)光(guang)(guang)度法(fa)(fa)(fa)(fa)、橢圓(yuan)偏振法(fa)(fa)(fa)(fa)、干(gan)(gan)涉(she)法(fa)(fa)(fa)(fa)等(deng)多(duo)種測(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)方法(fa)(fa)(fa)(fa)。不同的(de)測(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)方法(fa)(fa)(fa)(fa)，其適(shi)用范圍各有側重，褒貶(bian)不一。因此結合多(duo)種測(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)方法(fa)(fa)(fa)(fa)的(de)多(duo)通(tong)道式復合測(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)法(fa)(fa)(fa)(fa)也有研究，如橢圓(yuan)偏振法(fa)(fa)(fa)(fa)和(he)光(guang)(guang)度法(fa)(fa)(fa)(fa)結合的(de)光(guang)(guang)譜橢偏法(fa)(fa)(fa)(fa)，彩(cai)色(se)共焦光(guang)(guang)譜干(gan)(gan)涉(she)和(he)白光(guang)(guang)顯微干(gan)(gan)涉(she)的(de)結合法(fa)(fa)(fa)(fa)等(deng)。白光(guang)(guang)干(gan)(gan)涉(she)膜(mo)厚(hou)測(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)技術可(ke)以對薄(bo)膜(mo)的(de)各項光(guang)(guang)學(xue)參數進行(xing)聯合測(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)和(he)分析。嘉定區(qu)原(yuan)裝膜(mo)厚(hou)儀

本(ben)章主(zhu)要介紹了(le)基于(yu)白(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)反射(she)光(guang)(guang)(guang)譜和白(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)垂(chui)直掃描干涉(she)(she)聯用(yong)的靶丸(wan)殼層(ceng)折射(she)率(lv)測量(liang)(liang)方(fang)法(fa)(fa)。該方(fang)法(fa)(fa)利(li)用(yong)白(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)反射(she)光(guang)(guang)(guang)譜測量(liang)(liang)靶丸(wan)殼層(ceng)光(guang)(guang)(guang)學厚度(du)，利(li)用(yong)白(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)垂(chui)直掃描干涉(she)(she)技術(shu)測量(liang)(liang)光(guang)(guang)(guang)線通過(guo)靶丸(wan)殼層(ceng)后(hou)的光(guang)(guang)(guang)程增量(liang)(liang)，二者(zhe)聯立即可(ke)求得靶丸(wan)折射(she)率(lv)和厚度(du)數(shu)據。在實驗數(shu)據處理(li)方(fang)面(mian)，為解(jie)決(jue)白(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)干涉(she)(she)光(guang)(guang)(guang)譜中波(bo)(bo)峰位置難以(yi)精(jing)確確定(ding)和單極值點判讀可(ke)能(neng)存在干涉(she)(she)級(ji)次誤差的問(wen)題，提出MATLAB曲線擬合測定(ding)極值點波(bo)(bo)長以(yi)及利(li)用(yong)干涉(she)(she)級(ji)次連續性進行(xing)干涉(she)(she)級(ji)次判定(ding)的數(shu)據處理(li)方(fang)法(fa)(fa)。應(ying)用(yong)碳(tan)氫(CH)薄膜(mo)(mo)對測量(liang)(liang)結果的可(ke)靠性進行(xing)了(le)實驗驗證。大連品牌膜(mo)(mo)厚儀白(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)干涉(she)(she)膜(mo)(mo)厚測量(liang)(liang)技術(shu)可(ke)以(yi)應(ying)用(yong)于(yu)不(bu)同材料的薄膜(mo)(mo)的研究和制造(zao)中。

白(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)干(gan)(gan)(gan)涉(she)(she)(she)光(guang)(guang)(guang)譜(pu)(pu)分(fen)(fen)析(xi)是目前白(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)干(gan)(gan)(gan)涉(she)(she)(she)測(ce)(ce)(ce)(ce)量(liang)的(de)(de)(de)一個重要(yao)(yao)方(fang)向，此(ci)項技(ji)術主要(yao)(yao)是利(li)用光(guang)(guang)(guang)譜(pu)(pu)儀將對(dui)條紋(wen)的(de)(de)(de)測(ce)(ce)(ce)(ce)量(liang)轉變(bian)成(cheng)為對(dui)不同波(bo)長光(guang)(guang)(guang)譜(pu)(pu)的(de)(de)(de)測(ce)(ce)(ce)(ce)量(liang)。通過分(fen)(fen)析(xi)被(bei)測(ce)(ce)(ce)(ce)物(wu)體(ti)(ti)的(de)(de)(de)光(guang)(guang)(guang)譜(pu)(pu)特性，就(jiu)能夠(gou)得到相(xiang)應的(de)(de)(de)長度信(xin)息和形貌信(xin)息。相(xiang)比于白(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)掃描干(gan)(gan)(gan)涉(she)(she)(she)術，它不需要(yao)(yao)大量(liang)的(de)(de)(de)掃描過程，因此(ci)提高了(le)(le)測(ce)(ce)(ce)(ce)量(liang)效率，而且(qie)也(ye)減小了(le)(le)環(huan)境對(dui)它的(de)(de)(de)影響。此(ci)項技(ji)術能夠(gou)測(ce)(ce)(ce)(ce)量(liang)距離、位移、塊(kuai)狀材料的(de)(de)(de)群折射(she)率以(yi)及(ji)多(duo)層薄膜厚度。白(bai)(bai)干(gan)(gan)(gan)干(gan)(gan)(gan)涉(she)(she)(she)光(guang)(guang)(guang)譜(pu)(pu)法(fa)是基于頻域干(gan)(gan)(gan)涉(she)(she)(she)的(de)(de)(de)理論，采用白(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)作為寬波(bo)段光(guang)(guang)(guang)源，經(jing)過分(fen)(fen)光(guang)(guang)(guang)棱鏡，被(bei)分(fen)(fen)成(cheng)兩束光(guang)(guang)(guang)，這(zhe)兩束光(guang)(guang)(guang)分(fen)(fen)別入射(she)到參考面(mian)(mian)和被(bei)測(ce)(ce)(ce)(ce)物(wu)體(ti)(ti)，反射(she)回來(lai)后(hou)經(jing)過分(fen)(fen)光(guang)(guang)(guang)棱鏡合成(cheng)后(hou)，由色散元件(jian)分(fen)(fen)光(guang)(guang)(guang)至探測(ce)(ce)(ce)(ce)器，記(ji)錄頻域上的(de)(de)(de)干(gan)(gan)(gan)涉(she)(she)(she)信(xin)號(hao)(hao)(hao)。此(ci)光(guang)(guang)(guang)譜(pu)(pu)信(xin)號(hao)(hao)(hao)包含了(le)(le)被(bei)測(ce)(ce)(ce)(ce)表面(mian)(mian)的(de)(de)(de)信(xin)息，如果此(ci)時被(bei)測(ce)(ce)(ce)(ce)物(wu)體(ti)(ti)是薄膜，則薄膜的(de)(de)(de)厚度也(ye)包含在這(zhe)光(guang)(guang)(guang)譜(pu)(pu)信(xin)號(hao)(hao)(hao)當中。這(zhe)樣就(jiu)把白(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)干(gan)(gan)(gan)涉(she)(she)(she)的(de)(de)(de)精度和光(guang)(guang)(guang)譜(pu)(pu)測(ce)(ce)(ce)(ce)量(liang)的(de)(de)(de)速(su)度結合起來(lai)，形成(cheng)了(le)(le)一種精度高而且(qie)速(su)度快的(de)(de)(de)測(ce)(ce)(ce)(ce)量(liang)方(fang)法(fa)。

根據以(yi)上分(fen)(fen)(fen)析可(ke)知，白光(guang)干涉(she)(she)時(shi)域(yu)解(jie)調(diao)方(fang)(fang)(fang)案的(de)(de)(de)優點是：①能夠實現(xian)測(ce)量；②抗干擾能力強(qiang)，系統的(de)(de)(de)分(fen)(fen)(fen)辨(bian)(bian)率(lv)(lv)與光(guang)源輸出(chu)功率(lv)(lv)的(de)(de)(de)波(bo)動(dong)，光(guang)源的(de)(de)(de)波(bo)長漂(piao)移以(yi)及外界環境對光(guang)纖的(de)(de)(de)擾動(dong)等因素(su)無(wu)關；③測(ce)量精(jing)度(du)(du)與零級干涉(she)(she)條紋的(de)(de)(de)確定精(jing)度(du)(du)以(yi)及反(fan)射(she)鏡(jing)的(de)(de)(de)精(jing)度(du)(du)有關；④結構簡單，成本較低。但是，時(shi)域(yu)解(jie)調(diao)方(fang)(fang)(fang)法需要借助掃(sao)描(miao)部(bu)件移動(dong)干涉(she)(she)儀一(yi)(yi)端的(de)(de)(de)反(fan)射(she)鏡(jing)來(lai)進行(xing)相(xiang)(xiang)位補償，所(suo)以(yi)掃(sao)描(miao)裝置的(de)(de)(de)分(fen)(fen)(fen)辨(bian)(bian)率(lv)(lv)將(jiang)影響系統的(de)(de)(de)精(jing)度(du)(du)。采用這種解(jie)調(diao)方(fang)(fang)(fang)案的(de)(de)(de)測(ce)量分(fen)(fen)(fen)辨(bian)(bian)率(lv)(lv)一(yi)(yi)般是幾個微(wei)米，達到(dao)(dao)亞微(wei)米的(de)(de)(de)分(fen)(fen)(fen)辨(bian)(bian)率(lv)(lv)，主要受(shou)機械(xie)掃(sao)描(miao)部(bu)件的(de)(de)(de)分(fen)(fen)(fen)辨(bian)(bian)率(lv)(lv)和(he)穩定性限(xian)制。文獻[46]所(suo)報道的(de)(de)(de)位移掃(sao)描(miao)的(de)(de)(de)分(fen)(fen)(fen)辨(bian)(bian)率(lv)(lv)可(ke)以(yi)達到(dao)(dao)0.54μm。當所(suo)測(ce)光(guang)程差較小時(shi)，F-P腔前后表面干涉(she)(she)峰值相(xiang)(xiang)距很近(jin)，難以(yi)區分(fen)(fen)(fen)，此時(shi)時(shi)域(yu)解(jie)調(diao)方(fang)(fang)(fang)案的(de)(de)(de)應用受(shou)到(dao)(dao)限(xian)制。白光(guang)干涉(she)(she)膜厚(hou)測(ce)量技術可(ke)以(yi)對薄膜的(de)(de)(de)表面和(he)內部(bu)進行(xing)聯合(he)測(ce)量和(he)分(fen)(fen)(fen)析。

極值法(fa)求(qiu)解過(guo)(guo)程(cheng)計算簡單，速(su)度快，同時(shi)確(que)定(ding)薄(bo)(bo)(bo)膜(mo)(mo)的(de)(de)(de)(de)(de)多(duo)個光學(xue)常(chang)數(shu)及(ji)解決多(duo)值性問題，測(ce)試(shi)范圍廣，但沒(mei)有考慮薄(bo)(bo)(bo)膜(mo)(mo)均(jun)勻性和基底色散的(de)(de)(de)(de)(de)因素，以至于(yu)精度不夠高。此外，由于(yu)受曲線擬(ni)合精度的(de)(de)(de)(de)(de)限制，該(gai)方(fang)法(fa)對膜(mo)(mo)厚(hou)(hou)的(de)(de)(de)(de)(de)測(ce)量(liang)范圍有要(yao)求(qiu)，通常(chang)用這(zhe)種方(fang)法(fa)測(ce)量(liang)的(de)(de)(de)(de)(de)薄(bo)(bo)(bo)膜(mo)(mo)厚(hou)(hou)度應(ying)(ying)大于(yu)200nm且小于(yu)10μm，以確(que)保光譜(pu)信號(hao)中的(de)(de)(de)(de)(de)干涉(she)波(bo)峰數(shu)恰當(dang)。全光譜(pu)擬(ni)合法(fa)是基于(yu)客觀條件或基本常(chang)識(shi)來(lai)設置每個擬(ni)合參(can)數(shu)上限、下限，并為(wei)該(gai)區域的(de)(de)(de)(de)(de)薄(bo)(bo)(bo)膜(mo)(mo)生成一組或多(duo)組光學(xue)參(can)數(shu)及(ji)厚(hou)(hou)度的(de)(de)(de)(de)(de)初始(shi)值，引(yin)入適合的(de)(de)(de)(de)(de)色散模型，再根(gen)據麥克斯韋方(fang)程(cheng)組的(de)(de)(de)(de)(de)推導(dao)。這(zhe)樣求(qiu)得(de)的(de)(de)(de)(de)(de)值自然(ran)和實際的(de)(de)(de)(de)(de)透過(guo)(guo)率和反(fan)射率（通過(guo)(guo)光學(xue)系統直接(jie)測(ce)量(liang)的(de)(de)(de)(de)(de)薄(bo)(bo)(bo)膜(mo)(mo)透射率或反(fan)射率）有所不同，建立評價函(han)數(shu)，當(dang)計算的(de)(de)(de)(de)(de)透過(guo)(guo)率/反(fan)射率與實際值之間(jian)的(de)(de)(de)(de)(de)偏差小時(shi)，我們就可以認為(wei)預設的(de)(de)(de)(de)(de)初始(shi)值就是要(yao)測(ce)量(liang)的(de)(de)(de)(de)(de)薄(bo)(bo)(bo)膜(mo)(mo)參(can)數(shu)。白光干涉(she)膜(mo)(mo)厚(hou)(hou)測(ce)量(liang)技術可以應(ying)(ying)用于(yu)材料科學(xue)中的(de)(de)(de)(de)(de)薄(bo)(bo)(bo)膜(mo)(mo)微結構分析。內(nei)蒙古膜(mo)(mo)厚(hou)(hou)儀廠家現貨(huo)

白光(guang)干涉(she)膜厚測量技術可以應用于光(guang)學(xue)傳感器中的(de)薄膜厚度(du)測量。嘉(jia)定區原裝(zhuang)膜厚儀

白(bai)光(guang)(guang)掃(sao)描干(gan)(gan)涉(she)(she)(she)(she)法(fa)能免除色光(guang)(guang)相(xiang)(xiang)移干(gan)(gan)涉(she)(she)(she)(she)術測(ce)量的(de)(de)(de)局限性。白(bai)光(guang)(guang)掃(sao)描干(gan)(gan)涉(she)(she)(she)(she)法(fa)采(cai)用白(bai)光(guang)(guang)作為(wei)光(guang)(guang)源，白(bai)光(guang)(guang)作為(wei)一(yi)(yi)種寬光(guang)(guang)譜的(de)(de)(de)光(guang)(guang)源，相(xiang)(xiang)干(gan)(gan)長度較短，因此(ci)發生干(gan)(gan)涉(she)(she)(she)(she)的(de)(de)(de)位(wei)置只能在很小的(de)(de)(de)空(kong)間范圍內。而且在白(bai)光(guang)(guang)干(gan)(gan)涉(she)(she)(she)(she)時(shi)，有(you)一(yi)(yi)個(ge)確切的(de)(de)(de)零點位(wei)置。測(ce)量光(guang)(guang)和參(can)考光(guang)(guang)的(de)(de)(de)光(guang)(guang)程相(xiang)(xiang)等(deng)時(shi)，所有(you)波段的(de)(de)(de)光(guang)(guang)都會發生相(xiang)(xiang)長干(gan)(gan)涉(she)(she)(she)(she)，這(zhe)(zhe)時(shi)就能觀測(ce)到(dao)(dao)有(you)一(yi)(yi)個(ge)很明亮的(de)(de)(de)零級條紋，同(tong)時(shi)干(gan)(gan)涉(she)(she)(she)(she)信(xin)號也出現最大值，通過分析這(zhe)(zhe)個(ge)干(gan)(gan)涉(she)(she)(she)(she)信(xin)號，就能得到(dao)(dao)表面(mian)上對應數據點的(de)(de)(de)相(xiang)(xiang)對高度，從而得到(dao)(dao)被測(ce)物(wu)體的(de)(de)(de)幾何形貌。白(bai)光(guang)(guang)掃(sao)描干(gan)(gan)涉(she)(she)(she)(she)術是通過測(ce)量干(gan)(gan)涉(she)(she)(she)(she)條紋來(lai)完(wan)成的(de)(de)(de)，而干(gan)(gan)涉(she)(she)(she)(she)條紋的(de)(de)(de)清晰度直接影響測(ce)試精度。因此(ci)，為(wei)了提高精度，就需要更(geng)為(wei)復雜(za)的(de)(de)(de)光(guang)(guang)學系統，這(zhe)(zhe)使得條紋的(de)(de)(de)測(ce)量變成一(yi)(yi)項(xiang)費(fei)力又費(fei)時(shi)的(de)(de)(de)工作。嘉定區原裝(zhuang)膜厚儀

本文來自(zi)四(si)川精碳偉業(ye)環保(bao)科技有限責任公司：//wasul.cn/Article/30f3499935.html