在激(ji)光(guang)慣性(xing)約(yue)束(shu)核(he)聚變(bian)(bian)實驗中，靶(ba)(ba)丸(wan)的(de)(de)物性(xing)參(can)數和(he)幾何參(can)數是(shi)靶(ba)(ba)丸(wan)制備(bei)工藝改(gai)進(jin)和(he)仿真模擬核(he)聚變(bian)(bian)實驗過(guo)程的(de)(de)基礎，因此如何對(dui)(dui)靶(ba)(ba)丸(wan)多(duo)個參(can)數進(jin)行同步、高精度(du)、無(wu)損的(de)(de)綜合檢測(ce)是(shi)激(ji)光(guang)慣性(xing)約(yue)束(shu)核(he)聚變(bian)(bian)實驗中的(de)(de)關鍵(jian)問(wen)(wen)題。以(yi)上各種(zhong)薄膜厚度(du)及折射率的(de)(de)測(ce)量(liang)方法(fa)各有利(li)弊，但針(zhen)對(dui)(dui)本文(wen)實驗，仍然(ran)無(wu)法(fa)滿足激(ji)光(guang)核(he)聚變(bian)(bian)技(ji)術(shu)對(dui)(dui)靶(ba)(ba)丸(wan)參(can)數測(ce)量(liang)的(de)(de)高要求，靶(ba)(ba)丸(wan)參(can)數測(ce)量(liang)存(cun)在以(yi)下(xia)問(wen)(wen)題：不能對(dui)(dui)靶(ba)(ba)丸(wan)進(jin)行破壞性(xing)切(qie)割測(ce)量(liang)，否(fou)則，被破壞后的(de)(de)靶(ba)(ba)丸(wan)無(wu)法(fa)用于于下(xia)一步工藝處理或(huo)者打靶(ba)(ba)實驗；需要同時(shi)測(ce)得靶(ba)(ba)丸(wan)的(de)(de)多(duo)個參(can)數，不同參(can)數的(de)(de)單獨(du)測(ce)量(liang)，無(wu)法(fa)提供靶(ba)(ba)丸(wan)制備(bei)和(he)核(he)聚變(bian)(bian)反應(ying)過(guo)程中發生的(de)(de)結(jie)構變(bian)(bian)化現象和(he)規律(lv)，并且效率低(di)下(xia)、沒有統(tong)一的(de)(de)測(ce)量(liang)標準。靶(ba)(ba)丸(wan)屬于自(zi)支撐球形薄膜結(jie)構，曲(qu)面(mian)(mian)應(ying)力大、難展平的(de)(de)特點導致靶(ba)(ba)丸(wan)與基底不能完全(quan)貼合，在微區(qu)內(nei)可(ke)看作類薄膜結(jie)構白光(guang)干(gan)(gan)涉(she)膜厚測(ce)量(liang)技(ji)術(shu)可(ke)以(yi)通過(guo)對(dui)(dui)干(gan)(gan)涉(she)圖像的(de)(de)分析實現對(dui)(dui)薄膜的(de)(de)表面(mian)(mian)和(he)內(nei)部結(jie)構的(de)(de)聯合測(ce)量(liang)和(he)分析。潛江膜厚儀哪個品牌好

針對微米級工(gong)業薄(bo)(bo)(bo)膜(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)厚(hou)(hou)(hou)度(du)測(ce)(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)，研(yan)究了基于寬光(guang)(guang)(guang)譜(pu)干(gan)涉的(de)(de)(de)反射式法(fa)測(ce)(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)方法(fa)。根(gen)據薄(bo)(bo)(bo)膜(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)干(gan)涉及(ji)光(guang)(guang)(guang)譜(pu)共聚焦原理，綜(zong)合考慮成本(ben)、穩定性(xing)、體積等因(yin)素(su)要(yao)求(qiu)(qiu)，研(yan)制(zhi)了滿足工(gong)業應(ying)用(yong)的(de)(de)(de)小型薄(bo)(bo)(bo)膜(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)厚(hou)(hou)(hou)度(du)測(ce)(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)系統(tong)(tong)。根(gen)據波長分辨(bian)下的(de)(de)(de)薄(bo)(bo)(bo)膜(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)反射干(gan)涉光(guang)(guang)(guang)譜(pu)模(mo)型，結合經(jing)典模(mo)態分解(jie)和(he)(he)(he)非均勻傅里葉變(bian)換思想(xiang)，提出(chu)了一種基于相位功率譜(pu)分析(xi)的(de)(de)(de)膜(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)厚(hou)(hou)(hou)解(jie)算算法(fa)，能有效利用(yong)全光(guang)(guang)(guang)譜(pu)數據準確提取相位變(bian)化(hua)，對由環境(jing)噪聲帶來的(de)(de)(de)假(jia)頻(pin)干(gan)擾，具有很好(hao)的(de)(de)(de)抗(kang)干(gan)擾性(xing)。通過對PVC標準厚(hou)(hou)(hou)度(du)片(pian)，PCB板芯片(pian)膜(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)層(ceng)及(ji)鍺基SiO2膜(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)層(ceng)的(de)(de)(de)測(ce)(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)實驗對系統(tong)(tong)性(xing)能進行了驗證，結果表明測(ce)(ce)(ce)厚(hou)(hou)(hou)系統(tong)(tong)具有1~75μm厚(hou)(hou)(hou)度(du)的(de)(de)(de)測(ce)(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)量(liang)(liang)(liang)程，μm.的(de)(de)(de)測(ce)(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)不(bu)確定度(du)。由于無需對焦，可在10ms內(nei)完成單次測(ce)(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)，滿足工(gong)業級測(ce)(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)高效便捷的(de)(de)(de)應(ying)用(yong)要(yao)求(qiu)(qiu)。浦東新(xin)區膜(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)厚(hou)(hou)(hou)儀常(chang)用(yong)解(jie)決(jue)方案白(bai)光(guang)(guang)(guang)干(gan)涉膜(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)厚(hou)(hou)(hou)測(ce)(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)技術可以通過對干(gan)涉曲線的(de)(de)(de)分析(xi)實現(xian)對薄(bo)(bo)(bo)膜(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)的(de)(de)(de)厚(hou)(hou)(hou)度(du)和(he)(he)(he)形貌的(de)(de)(de)聯(lian)合測(ce)(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)和(he)(he)(he)分析(xi)。

常用白光(guang)(guang)(guang)垂直掃描干(gan)(gan)涉(she)(she)(she)(she)系統(tong)的(de)原理(li)示意圖，入(ru)射的(de)白光(guang)(guang)(guang)光(guang)(guang)(guang)束(shu)通過(guo)半(ban)反半(ban)透(tou)鏡(jing)(jing)進(jin)入(ru)到顯微干(gan)(gan)涉(she)(she)(she)(she)物鏡(jing)(jing)后(hou)，被分(fen)光(guang)(guang)(guang)鏡(jing)(jing)分(fen)成兩(liang)部(bu)(bu)分(fen)，一個部(bu)(bu)分(fen)入(ru)射到固定的(de)參考(kao)鏡(jing)(jing)，一部(bu)(bu)分(fen)入(ru)射到樣(yang)品表面(mian)，當參考(kao)鏡(jing)(jing)表面(mian)和(he)樣(yang)品表面(mian)的(de)反射光(guang)(guang)(guang)通過(guo)分(fen)光(guang)(guang)(guang)鏡(jing)(jing)后(hou)，再次(ci)匯聚發生干(gan)(gan)涉(she)(she)(she)(she)，干(gan)(gan)涉(she)(she)(she)(she)光(guang)(guang)(guang)通過(guo)透(tou)鏡(jing)(jing)后(hou)，利用電荷耦合器(CCD)可(ke)探測整個視場內雙白光(guang)(guang)(guang)光(guang)(guang)(guang)束(shu)的(de)干(gan)(gan)涉(she)(she)(she)(she)圖像。利用Z向精密位(wei)移(yi)臺(tai)帶動干(gan)(gan)涉(she)(she)(she)(she)鏡(jing)(jing)頭(tou)或(huo)樣(yang)品臺(tai)Z向掃描，可(ke)獲得一系列的(de)干(gan)(gan)涉(she)(she)(she)(she)圖像。根(gen)據干(gan)(gan)涉(she)(she)(she)(she)圖像序列中對應點(dian)的(de)光(guang)(guang)(guang)強隨光(guang)(guang)(guang)程(cheng)差(cha)變化曲線，可(ke)得該點(dian)的(de)Z向相(xiang)對位(wei)移(yi)；然后(hou)，由CCD圖像中每個像素點(dian)光(guang)(guang)(guang)強最(zui)大(da)值對應的(de)Z向位(wei)置獲得被測樣(yang)品表面(mian)的(de)三維形貌。

白光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)干涉(she)(she)的(de)(de)(de)分(fen)析方法(fa)(fa)利用(yong)(yong)白光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)干涉(she)(she)感知空間位(wei)(wei)(wei)置(zhi)的(de)(de)(de)變化(hua)，從而得(de)(de)到被(bei)測(ce)(ce)物(wu)體的(de)(de)(de)信息。它是在單色(se)(se)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)相(xiang)(xiang)移(yi)(yi)干涉(she)(she)術(shu)的(de)(de)(de)基礎上發展(zhan)(zhan)而來的(de)(de)(de)。單色(se)(se)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)相(xiang)(xiang)移(yi)(yi)干涉(she)(she)術(shu)利用(yong)(yong)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)路使參考(kao)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)和被(bei)測(ce)(ce)表面的(de)(de)(de)反(fan)射光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)發生干涉(she)(she)，再使用(yong)(yong)相(xiang)(xiang)移(yi)(yi)的(de)(de)(de)方法(fa)(fa)調制相(xiang)(xiang)位(wei)(wei)(wei)，利用(yong)(yong)干涉(she)(she)場中(zhong)(zhong)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)強(qiang)的(de)(de)(de)變化(hua)計算出(chu)(chu)其每個(ge)數據(ju)點的(de)(de)(de)初始相(xiang)(xiang)位(wei)(wei)(wei)，但是這(zhe)(zhe)樣得(de)(de)到的(de)(de)(de)相(xiang)(xiang)位(wei)(wei)(wei)是位(wei)(wei)(wei)于（-π，+π]間，所以得(de)(de)到的(de)(de)(de)是不連(lian)續(xu)的(de)(de)(de)相(xiang)(xiang)位(wei)(wei)(wei)。因此，需要(yao)進(jin)(jin)行相(xiang)(xiang)位(wei)(wei)(wei)展(zhan)(zhan)開使其變為連(lian)續(xu)相(xiang)(xiang)位(wei)(wei)(wei)。再利用(yong)(yong)高度(du)與(yu)相(xiang)(xiang)位(wei)(wei)(wei)的(de)(de)(de)信息求出(chu)(chu)被(bei)測(ce)(ce)物(wu)體的(de)(de)(de)表面形貌。單色(se)(se)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)相(xiang)(xiang)移(yi)(yi)法(fa)(fa)具有測(ce)(ce)量速(su)度(du)快、測(ce)(ce)量分(fen)辨力高、對(dui)背景光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)強(qiang)不敏(min)感等優點。但是，由(you)于單色(se)(se)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)干涉(she)(she)無法(fa)(fa)確定(ding)(ding)干涉(she)(she)條紋(wen)的(de)(de)(de)零級位(wei)(wei)(wei)置(zhi)。因此，在相(xiang)(xiang)位(wei)(wei)(wei)解包裹中(zhong)(zhong)無法(fa)(fa)得(de)(de)到相(xiang)(xiang)位(wei)(wei)(wei)差的(de)(de)(de)周(zhou)期(qi)數，所以只能(neng)假定(ding)(ding)相(xiang)(xiang)位(wei)(wei)(wei)差不超過一個(ge)周(zhou)期(qi)，相(xiang)(xiang)當于測(ce)(ce)試表面的(de)(de)(de)相(xiang)(xiang)鄰高度(du)不能(neng)超過四分(fen)之一波(bo)長(chang)[27]。這(zhe)(zhe)就限制了(le)其測(ce)(ce)量的(de)(de)(de)范(fan)圍，使它只能(neng)測(ce)(ce)試連(lian)續(xu)結構(gou)或者光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)滑表面結構(gou)。白光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)干涉(she)(she)膜厚測(ce)(ce)量技術(shu)的(de)(de)(de)發展(zhan)(zhan)將促進(jin)(jin)相(xiang)(xiang)關(guan)產(chan)業的(de)(de)(de)發展(zhan)(zhan)和科學技術(shu)的(de)(de)(de)進(jin)(jin)步(bu)。

論文主要以(yi)(yi)半(ban)導體(ti)鍺和貴金屬金兩種材(cai)料為(wei)(wei)對象，研(yan)究了(le)白(bai)(bai)(bai)光(guang)干(gan)涉法(fa)(fa)(fa)、表面(mian)等(deng)離子(zi)體(ti)共(gong)振法(fa)(fa)(fa)和外差干(gan)涉法(fa)(fa)(fa)實現(xian)納米級薄(bo)膜(mo)(mo)厚度(du)(du)準確測(ce)量(liang)的(de)(de)(de)(de)可(ke)行性(xing)。由于不同材(cai)料薄(bo)膜(mo)(mo)的(de)(de)(de)(de)特性(xing)不同，所(suo)適用的(de)(de)(de)(de)測(ce)量(liang)方法(fa)(fa)(fa)也(ye)不同。半(ban)導體(ti)鍺膜(mo)(mo)具有折(zhe)射率(lv)高，在通信波(bo)段(duan)（1550nm附近(jin)）不透明的(de)(de)(de)(de)特點，選(xuan)擇采用白(bai)(bai)(bai)光(guang)干(gan)涉的(de)(de)(de)(de)測(ce)量(liang)方法(fa)(fa)(fa)；而(er)厚度(du)(du)更薄(bo)的(de)(de)(de)(de)金膜(mo)(mo)的(de)(de)(de)(de)折(zhe)射率(lv)為(wei)(wei)復數，且能激發的(de)(de)(de)(de)表面(mian)等(deng)離子(zi)體(ti)效(xiao)應，因而(er)可(ke)借助基于表面(mian)等(deng)離子(zi)體(ti)共(gong)振的(de)(de)(de)(de)測(ce)量(liang)方法(fa)(fa)(fa)；為(wei)(wei)了(le)進一步改(gai)善測(ce)量(liang)的(de)(de)(de)(de)精(jing)度(du)(du)，論文還研(yan)究了(le)外差干(gan)涉測(ce)量(liang)法(fa)(fa)(fa)，通過引(yin)入高精(jing)度(du)(du)的(de)(de)(de)(de)相位解調手(shou)段(duan)，檢(jian)測(ce)P光(guang)與S光(guang)之間(jian)的(de)(de)(de)(de)相位差提(ti)升(sheng)厚度(du)(du)測(ce)量(liang)的(de)(de)(de)(de)精(jing)度(du)(du)。白(bai)(bai)(bai)光(guang)干(gan)涉膜(mo)(mo)厚測(ce)量(liang)技術可(ke)以(yi)(yi)實現(xian)對薄(bo)膜(mo)(mo)的(de)(de)(de)(de)三(san)維成像和分析。無(wu)錫國內(nei)膜(mo)(mo)厚儀

白光干涉膜厚(hou)測量技(ji)術可以(yi)對不(bu)同材料(liao)的薄膜進行聯(lian)合測量和分析。潛江膜厚(hou)儀哪個品牌好

極值法求(qiu)解過(guo)程計(ji)算簡單，速(su)度(du)(du)快，同時確定薄膜(mo)的(de)(de)多(duo)個(ge)光(guang)學常數及解決多(duo)值性問題，測(ce)試范(fan)圍廣，但(dan)沒有考慮薄膜(mo)均勻(yun)性和基底色(se)(se)散的(de)(de)因(yin)素，以(yi)至于(yu)(yu)精(jing)度(du)(du)不夠高。此外，由于(yu)(yu)受(shou)曲線擬(ni)合(he)(he)精(jing)度(du)(du)的(de)(de)限制，該(gai)方(fang)法對(dui)膜(mo)厚的(de)(de)測(ce)量(liang)(liang)范(fan)圍有要(yao)求(qiu)，通常用這種方(fang)法測(ce)量(liang)(liang)的(de)(de)薄膜(mo)厚度(du)(du)應大(da)于(yu)(yu)200nm且小(xiao)于(yu)(yu)10μm，以(yi)確保光(guang)譜(pu)信號中的(de)(de)干(gan)涉波峰數恰(qia)當。全光(guang)譜(pu)擬(ni)合(he)(he)法是(shi)基于(yu)(yu)客觀條件或基本常識來設(she)置(zhi)每(mei)個(ge)擬(ni)合(he)(he)參數上限、下限，并(bing)為該(gai)區域的(de)(de)薄膜(mo)生成一組(zu)或多(duo)組(zu)光(guang)學參數及厚度(du)(du)的(de)(de)初始(shi)值，引入(ru)適合(he)(he)的(de)(de)色(se)(se)散模型，再根據(ju)麥克斯韋(wei)方(fang)程組(zu)的(de)(de)推導(dao)。這樣求(qiu)得的(de)(de)值自然(ran)和實際(ji)的(de)(de)透過(guo)率(lv)和反射(she)(she)(she)率(lv)（通過(guo)光(guang)學系統直接測(ce)量(liang)(liang)的(de)(de)薄膜(mo)透射(she)(she)(she)率(lv)或反射(she)(she)(she)率(lv)）有所不同，建立(li)評價函數，當計(ji)算的(de)(de)透過(guo)率(lv)/反射(she)(she)(she)率(lv)與實際(ji)值之間的(de)(de)偏(pian)差小(xiao)時，我們(men)就可(ke)以(yi)認為預(yu)設(she)的(de)(de)初始(shi)值就是(shi)要(yao)測(ce)量(liang)(liang)的(de)(de)薄膜(mo)參數。潛江膜(mo)厚儀哪個(ge)品牌好

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