微(wei)蝕(shi)(shi)刻(ke)液循環再生(sheng)(sheng)設備在(zai)使用中不(bu)(bu)(bu)但(dan)使微(wei)蝕(shi)(shi)刻(ke)工序基本實(shi)現(xian)污染零排(pai)放，并產出(chu)純度高、價(jia)值高的(de)(de)電解金屬銅。 一(yi)、微(wei)蝕(shi)(shi)液包括過(guo)硫酸(suan)鈉/硫酸(suan)體(ti)(ti)系(xi)和(he)雙(shuang)氧水(shui)/硫酸(suan)體(ti)(ti)系(xi)，在(zai)近幾年的(de)(de)運用在(zai)PCB之表面處理(li)(li)制(zhi)程，例如：沉銅（PTH)制(zhi)程，電鍍(du)制(zhi)程、內層(ceng)前處理(li)(li)、綠油前處理(li)(li)、OSP處理(li)(li)等生(sheng)(sheng)產線。 我們公司目(mu)前對過(guo)硫酸(suan)鈉/硫酸(suan)和(he)雙(shuang)氧水(shui)/硫酸(suan)兩種(zhong)體(ti)(ti)系(xi)的(de)(de)微(wei)蝕(shi)(shi)工序研(yan)發設計了不(bu)(bu)(bu)同的(de)(de)循環再生(sheng)(sheng)設備。 無論是過(guo)硫酸(suan)鈉/硫酸(suan)體(ti)(ti)系(xi)還(huan)是雙(shuang)氧水(shui)/硫酸(suan)體(ti)(ti)系(xi),我司設備均可把飽(bao)和(he)微(wei)蝕(shi)(shi)液處理(li)(li)再生(sheng)(sheng)后，返回客戶生(sheng)(sheng)產線繼續使用，回用時(shi)，不(bu)(bu)(bu)改變客戶原生(sheng)(sheng)產工藝參數(shu)；在(zai)運行我們公司設備時(shi)可不(bu)(bu)(bu)停機亦可更換藥水(shui)，從而達到穩定生(sheng)(sheng)產的(de)(de)目(mu)的(de)(de)。華星光電用的(de)(de)哪(na)家的(de)(de)BOE蝕(shi)(shi)刻(ke)液？湖北一(yi)種(zhong)BOE蝕(shi)(shi)刻(ke)液批(pi)量定制(zhi)

離(li)子(zi)膜(mo)(mo)電(dian)解法是電(dian)解槽(cao)30陽(yang)(yang)(yang)極可以(yi)為(wei)(wei)石墨板(ban)或鈦(tai)陽(yang)(yang)(yang)極板(ban)，陰(yin)極為(wei)(wei)鈦(tai)板(ban)，用離(li)子(zi)膜(mo)(mo)將陽(yang)(yang)(yang)極液(ye)(ye)(ye)和陰(yin)極液(ye)(ye)(ye)隔離(li)開(kai)，陽(yang)(yang)(yang)極為(wei)(wei)需(xu)要再生的蝕(shi)刻(ke)(ke)母液(ye)(ye)(ye)，陰(yin)極為(wei)(wei)銅(tong)(tong)離(li)子(zi)20~100g/l，酸(suan)度，電(dian)解槽(cao)30由(you)數個(ge)單(dan)元(yuan)電(dian)解槽(cao)串聯(lian)組成(cheng)，單(dan)元(yuan)電(dian)解槽(cao)30由(you)一個(ge)或者數個(ge)陽(yang)(yang)(yang)極模框(kuang)組成(cheng)，酸(suan)性蝕(shi)刻(ke)(ke)廢液(ye)(ye)(ye)經循(xun)(xun)環槽(cao)20陽(yang)(yang)(yang)極循(xun)(xun)環區(qu)229進入(ru)電(dian)解陽(yang)(yang)(yang)極區(qu)301，溢流回循(xun)(xun)環槽(cao)20蝕(shi)刻(ke)(ke)循(xun)(xun)環區(qu)230。調整好循(xun)(xun)環槽(cao)20的陰(yin)極循(xun)(xun)環區(qu)231的開(kai)槽(cao)銅(tong)(tong)離(li)子(zi)濃(nong)度20~100g/l，經電(dian)解槽(cao)30陰(yin)極然(ran)后(hou)溢流回循(xun)(xun)環槽(cao)20陰(yin)極循(xun)(xun)環區(qu)231完成(cheng)正(zheng)常循(xun)(xun)環，電(dian)解過(guo)程中(zhong)陰(yin)極鈦(tai)板(ban)生成(cheng)金(jin)屬(shu)銅(tong)(tong)，一定時(shi)(shi)間后(hou)銅(tong)(tong)可以(yi)剝離(li)下(xia)(xia)來，剩下(xia)(xia)的廢水成(cheng)為(wei)(wei)再生液(ye)(ye)(ye)，再生液(ye)(ye)(ye)因(yin)電(dian)解使(shi)銅(tong)(tong)離(li)子(zi)濃(nong)度越來越低，酸(suan)度上(shang)升，同時(shi)(shi)比(bi)(bi)重(zhong)下(xia)(xia)降(jiang)時(shi)(shi)，通過(guo)比(bi)(bi)重(zhong)自動添(tian)加(jia)(jia)器(qi)添(tian)加(jia)(jia)母液(ye)(ye)(ye)來提高(gao)再生液(ye)(ye)(ye)銅(tong)(tong)離(li)子(zi)的濃(nong)度。湖北了解BOE蝕(shi)刻(ke)(ke)液(ye)(ye)(ye)商(shang)家哪家的BOE蝕(shi)刻(ke)(ke)液(ye)(ye)(ye)比(bi)(bi)較好用點？

為(wei)了解(jie)(jie)(jie)決上述技(ji)術(shu)問題，本發明(ming)采用以(yi)(yi)下技(ji)術(shu)方案： 一種PCB酸(suan)性(xing)(xing)蝕刻液提取(qu)銅(tong)的方法，包括以(yi)(yi)下步驟：將使用過(guo)的酸(suan)性(xing)(xing)蝕刻液收集到廢(fei)液池中，送入離子膜電(dian)(dian)(dian)(dian)解(jie)(jie)(jie)室；使低ORP的酸(suan)性(xing)(xing)蝕刻液從離子膜電(dian)(dian)(dian)(dian)解(jie)(jie)(jie)槽(cao)陽(yang)極(ji)低位(wei)進(jin)入，當ORP升高(gao)時，高(gao)ORP的酸(suan)性(xing)(xing)蝕刻液再經陽(yang)極(ji)區高(gao)位(wei)流出；高(gao)含(han)銅(tong)量(liang)的蝕刻液從離子膜電(dian)(dian)(dian)(dian)解(jie)(jie)(jie)槽(cao)陰(yin)極(ji)區低位(wei)進(jin)入，蝕刻廢(fei)液在電(dian)(dian)(dian)(dian)解(jie)(jie)(jie)作用下還原出銅(tong)單質，降低銅(tong)離子含(han)量(liang)之后(hou)(hou)的蝕刻液從陰(yin)極(ji)高(gao)位(wei)流出，經再生調配(pei)室調配(pei)后(hou)(hou)繼續用于蝕刻，蝕刻產生的廢(fei)液收集到廢(fei)液池中進(jin)行循環處(chu)理；電(dian)(dian)(dian)(dian)解(jie)(jie)(jie)室電(dian)(dian)(dian)(dian)解(jie)(jie)(jie)過(guo)程(cheng)中的鹽酸(suan)揮發進(jin)入中和室進(jin)行中和反應；對銅(tong)單質進(jin)行水洗(xi)烘干，即可得到提取(qu)的銅(tong)。

據權利要(yao)求(qiu)1至3中(zhong)(zhong)任一項(xiang)所(suo)(suo)述(shu)的(de)(de)蝕刻(ke)液(ye)，其(qi)特征(zheng)在(zai)于(yu)，進一步(bu)含有(you)(you)α-羥(qian)(qian)基(ji)羧酸(suan)(suan)(suan)和/ 或α-羥(qian)(qian)基(ji)羧酸(suan)(suan)(suan)的(de)(de)鹽(yan)。 根據權利要(yao)求(qiu)4所(suo)(suo)述(shu)的(de)(de)蝕刻(ke)液(ye)，其(qi)特征(zheng)在(zai)于(yu)，所(suo)(suo)述(shu)α-羥(qian)(qian)基(ji)羧酸(suan)(suan)(suan)為選自由(you)酒石酸(suan)(suan)(suan)、蘋果(guo)酸(suan)(suan)(suan)、檸(ning)檬酸(suan)(suan)(suan)、乳酸(suan)(suan)(suan)及甘油酸(suan)(suan)(suan)所(suo)(suo)組成的(de)(de)群組中(zhong)(zhong)的(de)(de)至少(shao)一種。 根據權利要(yao)求(qiu)1至5中(zhong)(zhong)任一項(xiang)所(suo)(suo)述(shu)的(de)(de)蝕刻(ke)液(ye)，其(qi)特征(zheng)在(zai)于(yu)，所(suo)(suo)述(shu)酸(suan)(suan)(suan)的(de)(de)濃(nong)度(du)為20重(zhong)(zhong)(zhong)(zhong)量(liang)％至70重(zhong)(zhong)(zhong)(zhong)量(liang)％；所(suo)(suo)述(shu)有(you)(you)機硫(liu)化合物(wu)的(de)(de)濃(nong)度(du)為0.01重(zhong)(zhong)(zhong)(zhong)量(liang)％至10重(zhong)(zhong)(zhong)(zhong)量(liang)％。 根據權利要(yao)求(qiu)4至6中(zhong)(zhong)任一項(xiang)所(suo)(suo)述(shu)的(de)(de)蝕刻(ke)液(ye)，其(qi)特征(zheng)在(zai)于(yu)，所(suo)(suo)述(shu)α-羥(qian)(qian)基(ji)羧酸(suan)(suan)(suan)和/或α-羥(qian)(qian)基(ji)羧酸(suan)(suan)(suan)的(de)(de)鹽(yan)的(de)(de)濃(nong)度(du)為0.2重(zhong)(zhong)(zhong)(zhong)量(liang)％至5重(zhong)(zhong)(zhong)(zhong)量(liang)％。什么制(zhi)程中(zhong)(zhong)需要(yao)使用(yong)BOE蝕刻(ke)液(ye)。

在電(dian)(dian)子(zi)線路版（PCB）蝕(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)刻(ke)(ke)(ke)(ke)過(guo)程(cheng)中(zhong)(zhong)，蝕(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)刻(ke)(ke)(ke)(ke)液(ye)(ye)(ye)(ye)(ye)(ye)中(zhong)(zhong)的(de)(de)(de)銅含量漸漸增加(jia)(jia)。蝕(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)刻(ke)(ke)(ke)(ke)液(ye)(ye)(ye)(ye)(ye)(ye)要(yao)(yao)(yao)達(da)到(dao)比較好的(de)(de)(de)蝕(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)刻(ke)(ke)(ke)(ke)效果(guo)，每公(gong)升(sheng)蝕(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)刻(ke)(ke)(ke)(ke)液(ye)(ye)(ye)(ye)(ye)(ye)需(xu)含120至180克(ke)銅及相應分量的(de)(de)(de)蝕(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)刻(ke)(ke)(ke)(ke)鹽（NH4CI）及氨水(shui)（NH3）。要(yao)(yao)(yao)持續(xu)蝕(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)刻(ke)(ke)(ke)(ke)液(ye)(ye)(ye)(ye)(ye)(ye)中(zhong)(zhong)上述各種成(cheng)(cheng)份的(de)(de)(de)濃度比較好水(shui)平，蝕(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)刻(ke)(ke)(ke)(ke)用(yong)(yong)過(guo)后的(de)(de)(de)（以(yi)下稱[用(yong)(yong)后蝕(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)刻(ke)(ke)(ke)(ke)液(ye)(ye)(ye)(ye)(ye)(ye)]）溶液(ye)(ye)(ye)(ye)(ye)(ye)需(xu)不(bu)斷由添加(jia)(jia)的(de)(de)(de)藥劑所取(qu)締。本(ben)(ben)系(xi)(xi)統將(jiang)大量原(yuan)本(ben)(ben)需(xu)要(yao)(yao)(yao)排放(fang)(fang)的(de)(de)(de)用(yong)(yong)后蝕(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)刻(ke)(ke)(ke)(ke)液(ye)(ye)(ye)(ye)(ye)(ye)再生(sheng)還原(yuan)成(cheng)(cheng)為可(ke)(ke)(ke)再次(ci)使(shi)用(yong)(yong)的(de)(de)(de)再生(sheng)蝕(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)刻(ke)(ke)(ke)(ke)液(ye)(ye)(ye)(ye)(ye)(ye)。只需(xu)極少量的(de)(de)(de)補充劑及氨水(shui)，補償因運作時被(bei)帶走而失去的(de)(de)(de)部份。從而取(qu)代蝕(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)刻(ke)(ke)(ke)(ke)子(zi)液(ye)(ye)(ye)(ye)(ye)(ye)，既(ji)可(ke)(ke)(ke)達(da)到(dao)蝕(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)刻(ke)(ke)(ke)(ke)工藝的(de)(de)(de)要(yao)(yao)(yao)求，又可(ke)(ke)(ke)節省(sheng)生(sheng)產成(cheng)(cheng)本(ben)(ben)。蝕(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)刻(ke)(ke)(ke)(ke)液(ye)(ye)(ye)(ye)(ye)(ye)再生(sheng)循(xun)環系(xi)(xi)統有酸(suan)性、堿性兩大系(xi)(xi)統，兩大系(xi)(xi)統又可(ke)(ke)(ke)分為萃取(qu)法(fa)、直接電(dian)(dian)解法(fa)。可(ke)(ke)(ke)將(jiang)大量原(yuan)本(ben)(ben)需(xu)要(yao)(yao)(yao)排放(fang)(fang)的(de)(de)(de)用(yong)(yong)后蝕(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)刻(ke)(ke)(ke)(ke)液(ye)(ye)(ye)(ye)(ye)(ye)還原(yuan)再生(sheng)成(cheng)(cheng)為可(ke)(ke)(ke)再次(ci)使(shi)用(yong)(yong)的(de)(de)(de)再生(sheng)蝕(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)刻(ke)(ke)(ke)(ke)液(ye)(ye)(ye)(ye)(ye)(ye)。從而減少生(sheng)產廢液(ye)(ye)(ye)(ye)(ye)(ye)的(de)(de)(de)排放(fang)(fang)，回用(yong)(yong)降低生(sheng)產成(cheng)(cheng)本(ben)(ben)，且可(ke)(ke)(ke)提取(qu)出高純度電(dian)(dian)解金屬銅。BOE蝕(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)刻(ke)(ke)(ke)(ke)液(ye)(ye)(ye)(ye)(ye)(ye)適用(yong)(yong)于哪些行業(ye)。了解BOE蝕(shi)(shi)(shi)(shi)(shi)刻(ke)(ke)(ke)(ke)液(ye)(ye)(ye)(ye)(ye)(ye)推(tui)薦廠家

BOE蝕刻液應用于什么樣的場合(he)？湖(hu)北(bei)一種(zhong)BOE蝕刻液批量定制

蘇州(zhou)(zhou)博洋化(hua)學股份有限公(gong)司研(yan)發(fa)中心擁(yong)有先(xian)進(jin)的(de)科研(yan)生產(chan)和檢測設備(bei)(bei)，專業(ye)(ye)(ye)的(de)研(yan)發(fa)團隊。致力于(yu)電子(zi)領域環保、節(jie)能、環境友(you)好化(hua)學品(pin)的(de)研(yan)究開發(fa)；并根據客戶的(de)個性化(hua)需求量身定做整套(tao)解決(jue)方案，力求客戶100%滿意。公(gong)司以蘇州(zhou)(zhou)大(da)學、蘇州(zhou)(zhou)科技大(da)學、上海交通(tong)大(da)學等(deng)高校(xiao)研(yan)發(fa)隊伍為依托(tuo)對新(xin)(xin)(xin)技術(shu)、新(xin)(xin)(xin)設備(bei)(bei)的(de)研(yan)究進(jin)行精細化(hua)管理(li)，以達“技術(shu)求新(xin)(xin)(xin)，產(chan)品(pin)求精”，開發(fa)能夠(gou)提升人類生活品(pin)質(zhi)的(de)新(xin)(xin)(xin)型電子(zi)產(chan)品(pin)配(pei)套(tao)材料為目標(biao)，把公(gong)司建成國內前(qian)列和國際前(qian)列的(de)新(xin)(xin)(xin)型電子(zi)化(hua)學品(pin)材料專業(ye)(ye)(ye)制造企業(ye)(ye)(ye)。 蘇州(zhou)(zhou)市高新(xin)(xin)(xin)區滸(hu)關工(gong)(gong)業(ye)(ye)(ye)園(yuan)華(hua)橋路155號 蘇州(zhou)(zhou)市高新(xin)(xin)(xin)區滸(hu)關工(gong)(gong)業(ye)(ye)(ye)園(yuan)華(hua)橋路155號公(gong)司地址：蘇州(zhou)(zhou)市高新(xin)(xin)(xin)區滸(hu)關工(gong)(gong)業(ye)(ye)(ye)園(yuan)華(hua)橋路155號湖北一種(zhong)BOE蝕刻液批量定制

本文來自四川精碳偉業環保科技(ji)有限責任公(gong)司：//wasul.cn/Article/85a5399861.html