干(gan)(gan)(gan)涉(she)(she)法與(yu)(yu)分(fen)光(guang)(guang)光(guang)(guang)度(du)法都是利用(yong)(yong)相(xiang)干(gan)(gan)(gan)光(guang)(guang)形成等厚干(gan)(gan)(gan)涉(she)(she)條(tiao)紋的原理來(lai)確定(ding)薄(bo)膜(mo)(mo)(mo)厚度(du)和(he)折射(she)率，然而與(yu)(yu)薄(bo)膜(mo)(mo)(mo)自發(fa)產(chan)生的等傾干(gan)(gan)(gan)涉(she)(she)不(bu)同(tong)，干(gan)(gan)(gan)涉(she)(she)法是通過設置參(can)考(kao)(kao)光(guang)(guang)路(lu)(lu)，形成與(yu)(yu)測(ce)(ce)(ce)(ce)(ce)量(liang)光(guang)(guang)路(lu)(lu)間(jian)(jian)的干(gan)(gan)(gan)涉(she)(she)條(tiao)紋，因此其相(xiang)位信(xin)息(xi)包含(han)兩(liang)個部(bu)分(fen)，分(fen)別(bie)是由(you)參(can)考(kao)(kao)平面(mian)(mian)(mian)和(he)測(ce)(ce)(ce)(ce)(ce)量(liang)平面(mian)(mian)(mian)間(jian)(jian)掃(sao)描(miao)(miao)高度(du)引起的附加相(xiang)位和(he)由(you)透(tou)明(ming)薄(bo)膜(mo)(mo)(mo)內(nei)部(bu)多(duo)次(ci)反射(she)引起的膜(mo)(mo)(mo)厚相(xiang)位。干(gan)(gan)(gan)涉(she)(she)法測(ce)(ce)(ce)(ce)(ce)量(liang)光(guang)(guang)路(lu)(lu)使用(yong)(yong)面(mian)(mian)(mian)陣CCD接收參(can)考(kao)(kao)平面(mian)(mian)(mian)和(he)測(ce)(ce)(ce)(ce)(ce)量(liang)平面(mian)(mian)(mian)間(jian)(jian)相(xiang)干(gan)(gan)(gan)波面(mian)(mian)(mian)的干(gan)(gan)(gan)涉(she)(she)光(guang)(guang)強分(fen)布(bu)，不(bu)同(tong)于(yu)以(yi)(yi)上三種點測(ce)(ce)(ce)(ce)(ce)量(liang)方式，可(ke)一次(ci)性生成薄(bo)膜(mo)(mo)(mo)待測(ce)(ce)(ce)(ce)(ce)區(qu)域的表面(mian)(mian)(mian)形貌信(xin)息(xi)，但同(tong)時由(you)于(yu)存在(zai)大量(liang)軸向掃(sao)描(miao)(miao)和(he)數據(ju)解(jie)算，完成單次(ci)測(ce)(ce)(ce)(ce)(ce)量(liang)的時間(jian)(jian)相(xiang)對(dui)較長。白光(guang)(guang)干(gan)(gan)(gan)涉(she)(she)膜(mo)(mo)(mo)厚測(ce)(ce)(ce)(ce)(ce)量(liang)技(ji)術可(ke)以(yi)(yi)應用(yong)(yong)于(yu)電(dian)子顯示器(qi)中的薄(bo)膜(mo)(mo)(mo)厚度(du)測(ce)(ce)(ce)(ce)(ce)量(liang)。恩(en)施膜(mo)(mo)(mo)厚儀(yi)常用(yong)(yong)解(jie)決方案

開展(zhan)白(bai)(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)干(gan)(gan)(gan)涉理(li)論(lun)分析，在此基(ji)礎詳細介紹了(le)白(bai)(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)垂直(zhi)掃(sao)描干(gan)(gan)(gan)涉技(ji)(ji)術和(he)(he)白(bai)(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)反(fan)(fan)射(she)(she)(she)光(guang)(guang)(guang)譜(pu)(pu)技(ji)(ji)術的(de)(de)基(ji)本原理(li)，完(wan)成了(le)應用(yong)(yong)(yong)于靶(ba)(ba)(ba)丸(wan)殼(ke)(ke)(ke)層(ceng)折射(she)(she)(she)率(lv)和(he)(he)厚(hou)(hou)度(du)(du)分布(bu)測(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)(liang)實(shi)驗裝置的(de)(de)設計(ji)及搭建(jian)。該實(shi)驗裝置主要由(you)白(bai)(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)反(fan)(fan)射(she)(she)(she)光(guang)(guang)(guang)譜(pu)(pu)探測(ce)(ce)模塊(kuai)、靶(ba)(ba)(ba)丸(wan)吸(xi)附(fu)轉(zhuan)位(wei)(wei)模塊(kuai)、三(san)維運動模塊(kuai)、氣浮(fu)隔震(zhen)平(ping)臺等(deng)幾部分組成，可實(shi)現靶(ba)(ba)(ba)丸(wan)的(de)(de)負壓吸(xi)附(fu)、靶(ba)(ba)(ba)丸(wan)位(wei)(wei)置的(de)(de)精(jing)密調整(zheng)以及靶(ba)(ba)(ba)丸(wan)360°范圍的(de)(de)旋(xuan)轉(zhuan)及特(te)定角度(du)(du)下靶(ba)(ba)(ba)丸(wan)殼(ke)(ke)(ke)層(ceng)白(bai)(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)反(fan)(fan)射(she)(she)(she)光(guang)(guang)(guang)譜(pu)(pu)的(de)(de)測(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)(liang)。基(ji)于白(bai)(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)垂直(zhi)掃(sao)描干(gan)(gan)(gan)涉和(he)(he)白(bai)(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)反(fan)(fan)射(she)(she)(she)光(guang)(guang)(guang)譜(pu)(pu)的(de)(de)基(ji)本原理(li),建(jian)立了(le)二者聯用(yong)(yong)(yong)的(de)(de)靶(ba)(ba)(ba)丸(wan)殼(ke)(ke)(ke)層(ceng)折射(she)(she)(she)率(lv)測(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)(liang)方法(fa)，該方法(fa)利用(yong)(yong)(yong)白(bai)(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)反(fan)(fan)射(she)(she)(she)光(guang)(guang)(guang)譜(pu)(pu)測(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)(liang)靶(ba)(ba)(ba)丸(wan)殼(ke)(ke)(ke)層(ceng)光(guang)(guang)(guang)學厚(hou)(hou)度(du)(du)，利用(yong)(yong)(yong)白(bai)(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)垂直(zhi)掃(sao)描干(gan)(gan)(gan)涉技(ji)(ji)術測(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)(liang)光(guang)(guang)(guang)線通過靶(ba)(ba)(ba)丸(wan)殼(ke)(ke)(ke)層(ceng)后的(de)(de)光(guang)(guang)(guang)程增(zeng)量(liang)(liang)(liang)(liang)，二者聯立即可求(qiu)得(de)靶(ba)(ba)(ba)丸(wan)折射(she)(she)(she)率(lv)和(he)(he)厚(hou)(hou)度(du)(du)數據。青浦區新品膜厚(hou)(hou)儀白(bai)(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)干(gan)(gan)(gan)涉膜厚(hou)(hou)測(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)(liang)技(ji)(ji)術是(shi)一(yi)種測(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)(liang)薄膜厚(hou)(hou)度(du)(du)的(de)(de)方法(fa)。

光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)具有(you)(you)傳(chuan)播的(de)(de)特(te)性，不同(tong)波列在(zai)(zai)相遇(yu)的(de)(de)區域(yu)，振(zhen)動(dong)將(jiang)相互疊加，是(shi)各列光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)波獨自在(zai)(zai)該(gai)點所引起(qi)的(de)(de)振(zhen)動(dong)矢量和(he)。兩束(shu)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)要(yao)(yao)發生干(gan)(gan)涉(she)(she)(she)，應(ying)必須(xu)滿足(zu)三個相干(gan)(gan)條件，即(ji)：頻率一(yi)致(zhi)、振(zhen)動(dong)方(fang)向一(yi)致(zhi)、相位差(cha)穩定一(yi)致(zhi)。發生干(gan)(gan)涉(she)(she)(she)的(de)(de)兩束(shu)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)在(zai)(zai)一(yi)些地方(fang)振(zhen)動(dong)加強，而(er)在(zai)(zai)另一(yi)些地方(fang)振(zhen)動(dong)減弱，產生規則的(de)(de)明暗交(jiao)替變(bian)化。任何干(gan)(gan)涉(she)(she)(she)測(ce)量都(dou)是(shi)完全建立在(zai)(zai)這種光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)波典型特(te)性上的(de)(de)。下圖分別表(biao)示干(gan)(gan)涉(she)(she)(she)相長和(he)干(gan)(gan)涉(she)(she)(she)相消的(de)(de)合振(zhen)幅。與激光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)源(yuan)相比，白(bai)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)源(yuan)的(de)(de)相干(gan)(gan)長度(du)在(zai)(zai)幾微(wei)米(mi)到幾十(shi)微(wei)米(mi)內，通(tong)常都(dou)很短，更為(wei)重要(yao)(yao)的(de)(de)是(shi)，白(bai)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)源(yuan)產生的(de)(de)干(gan)(gan)涉(she)(she)(she)條紋(wen)具有(you)(you)一(yi)個典型的(de)(de)特(te)征(zheng)：即(ji)條紋(wen)有(you)(you)一(yi)個固(gu)定不變(bian)的(de)(de)位置，該(gai)固(gu)定位置對(dui)應(ying)于(yu)(yu)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)程(cheng)差(cha)為(wei)零的(de)(de)平衡位置，并在(zai)(zai)該(gai)位置白(bai)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)輸(shu)出光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)強度(du)具有(you)(you)最大值，并通(tong)過探測(ce)該(gai)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)強最大值，可(ke)實(shi)現樣品表(biao)面位移的(de)(de)精密測(ce)量。此外(wai)，白(bai)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)源(yuan)具有(you)(you)系統抗干(gan)(gan)擾能(neng)力(li)強、穩定性好且動(dong)態(tai)范圍(wei)大、結構(gou)簡單，成本低(di)廉(lian)等優點。因此，白(bai)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)垂(chui)直(zhi)掃描干(gan)(gan)涉(she)(she)(she)、白(bai)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)反(fan)射(she)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)譜等基于(yu)(yu)白(bai)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)干(gan)(gan)涉(she)(she)(she)的(de)(de)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)學測(ce)量技(ji)術在(zai)(zai)薄膜三維(wei)形貌(mao)測(ce)量、薄膜厚(hou)度(du)精密測(ce)量等領域(yu)得以廣泛應(ying)用。

薄(bo)膜(mo)(mo)(mo)作(zuo)為一種(zhong)特殊的(de)微結構，近(jin)年(nian)來在電子學(xue)、摩擦學(xue)、現(xian)代(dai)光(guang)學(xue)得到了廣泛的(de)應(ying)用(yong)，薄(bo)膜(mo)(mo)(mo)的(de)測(ce)(ce)(ce)試技術(shu)變得越來越重(zhong)(zhong)要。尤其是在厚度(du)(du)這一特定方向上(shang)，尺寸很小，基(ji)本上(shang)都是微觀可(ke)測(ce)(ce)(ce)量(liang)。因此，在微納測(ce)(ce)(ce)量(liang)領(ling)域(yu)中，薄(bo)膜(mo)(mo)(mo)厚度(du)(du)的(de)測(ce)(ce)(ce)試是一個(ge)非常重(zhong)(zhong)要而(er)且很實用(yong)的(de)研(yan)究方向。在工業生產中，薄(bo)膜(mo)(mo)(mo)的(de)厚度(du)(du)直接關系到薄(bo)膜(mo)(mo)(mo)能否正(zheng)常工作(zuo)。在半導體(ti)工業中，膜(mo)(mo)(mo)厚的(de)測(ce)(ce)(ce)量(liang)是硅單(dan)晶體(ti)表面(mian)熱氧化厚度(du)(du)以(yi)及(ji)平整度(du)(du)質量(liang)控制(zhi)的(de)重(zhong)(zhong)要手(shou)段。薄(bo)膜(mo)(mo)(mo)的(de)厚度(du)(du)影響薄(bo)膜(mo)(mo)(mo)的(de)電磁性能、力學(xue)性能和光(guang)學(xue)性能等，所以(yi)準確(que)地測(ce)(ce)(ce)量(liang)薄(bo)膜(mo)(mo)(mo)的(de)厚度(du)(du)成為一種(zhong)關鍵技術(shu)。白光(guang)干涉(she)膜(mo)(mo)(mo)厚測(ce)(ce)(ce)量(liang)技術(shu)可(ke)以(yi)實現(xian)對薄(bo)膜(mo)(mo)(mo)厚度(du)(du)的(de)在線檢測(ce)(ce)(ce)和自動控制(zhi)。

由于(yu)(yu)不同性質和形態的(de)(de)(de)(de)薄(bo)(bo)膜(mo)(mo)對系統的(de)(de)(de)(de)測(ce)(ce)(ce)(ce)(ce)量(liang)量(liang)程和精(jing)(jing)度(du)(du)的(de)(de)(de)(de)需(xu)求不盡相(xiang)同，因而(er)多(duo)種測(ce)(ce)(ce)(ce)(ce)量(liang)方法(fa)(fa)各有優缺(que)，難以(yi)一(yi)概而(er)論(lun)。將上述(shu)各測(ce)(ce)(ce)(ce)(ce)量(liang)特點總結如表1-1所示，按(an)照薄(bo)(bo)膜(mo)(mo)厚度(du)(du)的(de)(de)(de)(de)增加，適(shi)用(yong)的(de)(de)(de)(de)測(ce)(ce)(ce)(ce)(ce)量(liang)方式(shi)分別(bie)為橢(tuo)圓(yuan)(yuan)偏振法(fa)(fa)、分光(guang)(guang)(guang)光(guang)(guang)(guang)度(du)(du)法(fa)(fa)、共(gong)聚焦(jiao)法(fa)(fa)和干(gan)(gan)(gan)涉(she)法(fa)(fa)。對于(yu)(yu)小于(yu)(yu)1μm的(de)(de)(de)(de)較(jiao)薄(bo)(bo)薄(bo)(bo)膜(mo)(mo)，白(bai)(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)干(gan)(gan)(gan)涉(she)輪(lun)廓儀的(de)(de)(de)(de)測(ce)(ce)(ce)(ce)(ce)量(liang)精(jing)(jing)度(du)(du)較(jiao)低，分光(guang)(guang)(guang)光(guang)(guang)(guang)度(du)(du)法(fa)(fa)和橢(tuo)圓(yuan)(yuan)偏振法(fa)(fa)較(jiao)適(shi)合(he)。而(er)對于(yu)(yu)小于(yu)(yu)200nm的(de)(de)(de)(de)薄(bo)(bo)膜(mo)(mo)，由于(yu)(yu)透(tou)過率曲線缺(que)少峰(feng)(feng)谷值，橢(tuo)圓(yuan)(yuan)偏振法(fa)(fa)結果更加可(ke)靠。基(ji)于(yu)(yu)白(bai)(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)干(gan)(gan)(gan)涉(she)原理(li)的(de)(de)(de)(de)光(guang)(guang)(guang)學薄(bo)(bo)膜(mo)(mo)厚度(du)(du)測(ce)(ce)(ce)(ce)(ce)量(liang)方案(an)目前主(zhu)要集中(zhong)于(yu)(yu)測(ce)(ce)(ce)(ce)(ce)量(liang)透(tou)明(ming)或者半透(tou)明(ming)薄(bo)(bo)膜(mo)(mo)，通過使(shi)用(yong)不同的(de)(de)(de)(de)解(jie)(jie)調(diao)(diao)技(ji)(ji)(ji)術(shu)處理(li)白(bai)(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)干(gan)(gan)(gan)涉(she)的(de)(de)(de)(de)圖(tu)樣，得到待測(ce)(ce)(ce)(ce)(ce)薄(bo)(bo)膜(mo)(mo)厚度(du)(du)。本(ben)章在(zai)詳(xiang)細研究白(bai)(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)干(gan)(gan)(gan)涉(she)測(ce)(ce)(ce)(ce)(ce)量(liang)技(ji)(ji)(ji)術(shu)的(de)(de)(de)(de)常用(yong)解(jie)(jie)調(diao)(diao)方案(an)、解(jie)(jie)調(diao)(diao)原理(li)及(ji)其局限性的(de)(de)(de)(de)基(ji)礎上，分析(xi)得到了常用(yong)的(de)(de)(de)(de)基(ji)于(yu)(yu)兩個相(xiang)鄰干(gan)(gan)(gan)涉(she)峰(feng)(feng)的(de)(de)(de)(de)白(bai)(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)干(gan)(gan)(gan)涉(she)解(jie)(jie)調(diao)(diao)方案(an)不適(shi)用(yong)于(yu)(yu)極短光(guang)(guang)(guang)程差(cha)測(ce)(ce)(ce)(ce)(ce)量(liang)的(de)(de)(de)(de)結論(lun)。在(zai)此基(ji)礎上，我們提(ti)出(chu)了基(ji)于(yu)(yu)干(gan)(gan)(gan)涉(she)光(guang)(guang)(guang)譜單峰(feng)(feng)值波長移動的(de)(de)(de)(de)白(bai)(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)干(gan)(gan)(gan)涉(she)測(ce)(ce)(ce)(ce)(ce)量(liang)解(jie)(jie)調(diao)(diao)技(ji)(ji)(ji)術(shu)。白(bai)(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)干(gan)(gan)(gan)涉(she)膜(mo)(mo)厚測(ce)(ce)(ce)(ce)(ce)量(liang)技(ji)(ji)(ji)術(shu)可(ke)以(yi)應用(yong)于(yu)(yu)納米制造中(zhong)的(de)(de)(de)(de)薄(bo)(bo)膜(mo)(mo)厚度(du)(du)測(ce)(ce)(ce)(ce)(ce)量(liang)。益陽膜(mo)(mo)厚儀廠家現貨

白光(guang)干涉膜厚測量技術的(de)發(fa)展(zhan)(zhan)將促進相關(guan)產業的(de)發(fa)展(zhan)(zhan)和科學技術的(de)進步。恩施膜厚儀常用解決方案

本章主要介(jie)紹了基于白(bai)(bai)光(guang)反射(she)光(guang)譜和白(bai)(bai)光(guang)垂直掃描干(gan)涉(she)(she)(she)聯用的(de)(de)靶(ba)丸殼層折射(she)率(lv)測(ce)量(liang)方(fang)法(fa)。該方(fang)法(fa)利用白(bai)(bai)光(guang)反射(she)光(guang)譜測(ce)量(liang)靶(ba)丸殼層光(guang)學厚度(du)，利用白(bai)(bai)光(guang)垂直掃描干(gan)涉(she)(she)(she)技術測(ce)量(liang)光(guang)線通過靶(ba)丸殼層后的(de)(de)光(guang)程(cheng)增量(liang)，二者聯立即可求得靶(ba)丸折射(she)率(lv)和厚度(du)數據(ju)。在實驗(yan)數據(ju)處理(li)方(fang)面(mian)，為解決(jue)白(bai)(bai)光(guang)干(gan)涉(she)(she)(she)光(guang)譜中波(bo)峰位置(zhi)難以(yi)精確確定(ding)和單極值點判讀(du)可能存在干(gan)涉(she)(she)(she)級次誤差(cha)的(de)(de)問題，提出MATLAB曲線擬合(he)測(ce)定(ding)極值點波(bo)長以(yi)及利用干(gan)涉(she)(she)(she)級次連(lian)續性(xing)(xing)進(jin)行干(gan)涉(she)(she)(she)級次判定(ding)的(de)(de)數據(ju)處理(li)方(fang)法(fa)。應用碳氫(CH)薄膜(mo)對測(ce)量(liang)結果的(de)(de)可靠性(xing)(xing)進(jin)行了實驗(yan)驗(yan)證。恩施膜(mo)厚儀常用解決(jue)方(fang)案(an)

本文來自四川精(jing)碳偉(wei)業環保科技有限責任公司：//wasul.cn/Article/11d27899710.html