自動(dong)(dong)厚(hou)度(du)(du)測(ce)(ce)(ce)(ce)量系統幾(ji)乎任何形(xing)狀的(de)(de)樣品厚(hou)度(du)(du)和折射率的(de)(de)自動(dong)(dong)測(ce)(ce)(ce)(ce)繪。人工加(jia)(jia)載或機器(qi)人加(jia)(jia)載均可。在(zai)線厚(hou)度(du)(du)測(ce)(ce)(ce)(ce)量系統監測(ce)(ce)(ce)(ce)控制生產過程中移(yi)動(dong)(dong)薄膜(mo)厚(hou)度(du)(du)。高達100Hz的(de)(de)采樣率可以在(zai)多個測(ce)(ce)(ce)(ce)量位置得到(dao)。附件Filmetrics提供各種附件以滿足您(nin)(nin)的(de)(de)應用(yong)(yong)需(xu)要(yao)(yao)。F20系列臺(tai)式薄膜(mo)厚(hou)度(du)(du)測(ce)(ce)(ce)(ce)量系統只需(xu)按下一(yi)個按鈕，您(nin)(nin)在(zai)不(bu)到(dao)一(yi)秒鐘的(de)(de)同(tong)時測(ce)(ce)(ce)(ce)量厚(hou)度(du)(du)和折射率。設(she)置同(tong)樣簡單,只需(xu)插上(shang)(shang)設(she)備到(dao)您(nin)(nin)運行(xing)Windows?系統計算機的(de)(de)USB端口,并連接(jie)樣品平臺(tai),F20已在(zai)世界各地有成(cheng)千上(shang)(shang)萬的(de)(de)應用(yong)(yong)被使用(yong)(yong).事實(shi)上(shang)(shang)，我們每天(tian)從我們的(de)(de)客戶學習更(geng)多的(de)(de)應用(yong)(yong).選擇您(nin)(nin)的(de)(de)F20主要(yao)(yao)取(qu)決(jue)于您(nin)(nin)需(xu)要(yao)(yao)測(ce)(ce)(ce)(ce)量的(de)(de)薄膜(mo)的(de)(de)厚(hou)度(du)(du)（確(que)定所(suo)需(xu)的(de)(de)波長(chang)范(fan)圍(wei)）F20測(ce)(ce)(ce)(ce)厚(hou)范(fan)圍(wei)：15nm - 70μm；波長(chang)：380-1050nm。晶圓膜(mo)厚(hou)儀輪廓測(ce)(ce)(ce)(ce)量應用(yong)(yong)

生物(wu)(wu)醫(yi)療(liao)(liao)器(qi)(qi)械應用中的(de)涂層(ceng)(ceng)生物(wu)(wu)醫(yi)療(liao)(liao)器(qi)(qi)械的(de)制造和準備方面會用到許(xu)多類型的(de)涂層(ceng)(ceng)。有(you)些(xie)涂層(ceng)(ceng)是為了保(bao)護(hu)設備免(mian)受(shou)腐蝕，而其(qi)他(ta)的(de)則是為了預防組(zu)織損傷、感然或者是排異反(fan)應。 藥物(wu)(wu)傳(chuan)輸涂層(ceng)(ceng)也(ye)變(bian)得日益普(pu)通。其(qi)它生物(wu)(wu)醫(yi)學器(qi)(qi)械，如血(xue)(xue)管成型球囊，具有(you)獨力的(de)隔膜，必須具有(you)均(jun)勻和固定的(de)厚(hou)度才能(neng)正常工作。測(ce)量范例：支架是塑(su)料或金屬制成的(de)插入血(xue)(xue)管防止收縮(suo)的(de)小管。很多時候(hou)，這(zhe)(zhe)些(xie)支架用聚(ju)合物(wu)(wu)或藥物(wu)(wu)涂層(ceng)(ceng)處(chu)理(li)，以(yi)提高功能(neng)和耐腐蝕。F40配上20倍物(wu)(wu)鏡（25微米光(guang)斑），我(wo)們能(neng)夠測(ce)量沿不(bu)銹鋼支架外徑這(zhe)(zhe)些(xie)涂層(ceng)(ceng)的(de)厚(hou)度。這(zhe)(zhe)個功能(neng)強大的(de)儀器(qi)(qi)提供醫(yi)療(liao)(liao)器(qi)(qi)械行業快速可靠，非破壞(huai)性，無(wu)需樣品(pin)準備的(de)厚(hou)度測(ce)量。廣東膜厚(hou)儀代理(li)商所有(you)的(de) Filmetrics 型號都(dou)能(neng)通過(guo)精確的(de)光(guang)譜(pu)反(fan)射(she)建模來測(ce)量厚(hou)度 (和折射(she)率)。

F3-CS：快速厚度(du)測(ce)(ce)量(liang)(liang)可選配(pei)FILMeasure厚度(du)測(ce)(ce)量(liang)(liang)軟件(jian)使厚度(du)測(ce)(ce)量(liang)(liang)就(jiu)像在(zai)平臺上放置(zhi)你的(de)(de)(de)樣品(pin)一(yi)樣容易,軟件(jian)內建(jian)所有常見(jian)的(de)(de)(de)電(dian)介質和(he)半導(dao)體層（包括C，N和(he)HT型聚對(dui)二甲苯）的(de)(de)(de)光(guang)學常數(n和(he)k）,厚度(du)結果(guo)會(hui)及時的(de)(de)(de)以(yi)直覺的(de)(de)(de)測(ce)(ce)量(liang)(liang)結果(guo)顯(xian)示對(dui)于進階使用者，可以(yi)進一(yi)步以(yi)F3-CS測(ce)(ce)量(liang)(liang)折(zhe)射(she)率,F3-CS可在(zai)任何運行(xing)WindowsXP到Windows864位作業(ye)系(xi)統的(de)(de)(de)計算機上運行(xing),USB電(dian)纜則提供(gong)電(dian)源(yuan)和(he)通信功能.包含的(de)(de)(de)內容：USB供(gong)電(dian)之光(guang)譜儀/光(guang)源(yuan)裝置(zhi)FILMeasure8軟件(jian)內置(zhi)樣品(pin)平臺BK7參考材料(liao)四萬小時光(guang)源(yuan)壽命額外的(de)(de)(de)好處：應用工程(cheng)師可立刻提供(gong)幫助（周(zhou)一(yi)-周(zhou)五）網上的(de)(de)(de)“手(shou)(shou)把手(shou)(shou)”支持(需要連接(jie)互聯網)。

（光(guang)(guang)(guang)刻(ke)膠）polyerlayers（高分(fen)子(zi)聚(ju)合物層(ceng)）polymide（聚(ju)酰(xian)亞胺）polysilicon（多(duo)晶硅）amorphoussilicon（非晶硅）基(ji)底(di)實例(li)：對(dui)于厚(hou)(hou)度(du)測量(liang)，大(da)多(duo)數(shu)情況下所要(yao)求的(de)(de)(de)只(zhi)是一塊光(guang)(guang)(guang)滑、反射的(de)(de)(de)基(ji)底(di)。對(dui)于光(guang)(guang)(guang)學(xue)常(chang)數(shu)測量(liang)，需要(yao)一塊平(ping)整的(de)(de)(de)鏡面(mian)反射基(ji)底(di)；如(ru)果(guo)基(ji)底(di)是透明的(de)(de)(de)，基(ji)底(di)背面(mian)需要(yao)進行處理使之不(bu)能反射。包括：silicon（硅）glass（玻璃(li)）aluminum（鋁）gaas（砷(shen)化鎵）steel（鋼）polycarbonate（聚(ju)碳酸脂）polymerfilms（高分(fen)子(zi)聚(ju)合物膜(mo)）應用半導體制造(zao)液(ye)晶顯示器光(guang)(guang)(guang)學(xue)鍍膜(mo)photoresist光(guang)(guang)(guang)刻(ke)膠oxides氧(yang)化物nitrides氮化物cellgaps液(ye)晶間(jian)隙polyimide聚(ju)酰(xian)亞胺ito納米銦(yin)錫金屬(shu)氧(yang)化物hardnesscoatings硬(ying)鍍膜(mo)anti-reflectioncoatings增(zeng)透鍍膜(mo)filters濾光(guang)(guang)(guang)f20使用**仿真活動來分(fen)析光(guang)(guang)(guang)譜反射率數(shu)據。標準(zhun)配置和(he)規格F20-UVF20F20-NIRF20-EXR只(zhi)測試厚(hou)(hou)度(du)1nm~40μm15nm~100μm100nm~250μm15nm~250μm測試厚(hou)(hou)度(du)和(he)n&k值50nmandup100nmandup300nmandup100nmandup波長范圍200-1100nm380-1100nm950-1700nm380-1700nm準(zhun)確度(du)大(da)于％或2nm精度(du)1A2A1A穩定性光(guang)(guang)(guang)斑大(da)小(xiao)20μm至(zhi)可(ke)選樣(yang)品大(da)小(xiao)1mm至(zhi)300mm及更大(da)探(tan)測器類型(xing)1250-元素硅陣列512-元素砷(shen)化銦(yin)鎵1000-元素硅&512-砷(shen)化銦(yin)鎵陣列光(guang)(guang)(guang)源鎢鹵素燈。膜(mo)厚(hou)(hou)儀是一種用于測量(liang)薄膜(mo)或涂層(ceng)的(de)(de)(de)厚(hou)(hou)度(du)的(de)(de)(de)儀器。

不(bu)(bu)管是參與對(dui)顯示器的(de)(de)基礎研究還是制造，Thetametrisis都能(neng)夠提供(gong)您所需要(yao)的(de)(de)...測(ce)(ce)(ce)量液晶層-聚(ju)酰(xian)亞胺、硬涂(tu)層、液晶、間(jian)隙測(ce)(ce)(ce)量有機發(fa)光(guang)二極管層-發(fa)光(guang)、電注入、緩(huan)沖墊、封裝(zhuang)對(dui)于(yu)空白樣品，我(wo)們建議使用FR-Scanner系列儀(yi)器。對(dui)于(yu)圖案片，Thetametrisis的(de)(de)FR-Scanner用于(yu)測(ce)(ce)(ce)量薄(bo)膜厚(hou)度(du)已經找到(dao)了顯示器應用廣范(fan)使用。測(ce)(ce)(ce)量范(fan)例此案例中，我(wo)們成功地測(ce)(ce)(ce)量了藍寶石和硼硅玻璃基底上(shang)銦錫(xi)氧化(hua)物薄(bo)膜厚(hou)度(du)，可以很(hen)容易地在380納米到(dao)1700納米內同(tong)時(shi)測(ce)(ce)(ce)量透(tou)射(she)率和反射(she)率以確定厚(hou)度(du)，折射(she)率，消光(guang)系數。由于(yu)ITO薄(bo)膜在各種(zhong)基底上(shang)不(bu)(bu)同(tong)尋常的(de)(de)的(de)(de)擴散，這(zhe)個擴展的(de)(de)波長(chang)范(fan)圍(wei)是必(bi)要(yao)的(de)(de)。不(bu)(bu)同(tong)的(de)(de) F50 儀(yi)器是根據(ju)波長(chang)范(fan)圍(wei)來加以區分(fen)的(de)(de)。北(bei)京膜厚(hou)儀(yi)推薦型號

F20-UV測(ce)厚(hou)(hou)范圍：1nm - 40μm；波長：190-1100nm。晶(jing)圓膜厚(hou)(hou)儀輪(lun)廓測(ce)量應(ying)用

銦(yin)錫(xi)氧(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)(hua)物(wu)與透(tou)明導(dao)(dao)電(dian)(dian)氧(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)(hua)物(wu)液晶(jing)顯(xian)(xian)示器(qi)(qi)，有(you)機(ji)發(fa)光(guang)(guang)二極(ji)管(guan)變(bian)異體，以及(ji)絕大多(duo)(duo)數(shu)平面(mian)顯(xian)(xian)示器(qi)(qi)技(ji)術都依靠透(tou)明導(dao)(dao)電(dian)(dian)氧(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)(hua)物(wu)(TCO)來傳輸電(dian)(dian)流，并作每個發(fa)光(guang)(guang)元(yuan)素(su)的(de)(de)陽極(ji)。和任(ren)何(he)薄膜(mo)工藝一(yi)樣，了解(jie)組成顯(xian)(xian)示器(qi)(qi)各層物(wu)質的(de)(de)厚(hou)(hou)度至關(guan)重要。對(dui)于液晶(jing)顯(xian)(xian)示器(qi)(qi)而(er)言(yan)(yan)，就需要有(you)測(ce)量(liang)(liang)(liang)聚(ju)酰亞(ya)胺和液晶(jing)層厚(hou)(hou)度的(de)(de)方(fang)(fang)法(fa)，對(dui)有(you)機(ji)發(fa)光(guang)(guang)二極(ji)管(guan)而(er)言(yan)(yan)，則需要測(ce)量(liang)(liang)(liang)發(fa)光(guang)(guang)、電(dian)(dian)注入和封裝層的(de)(de)厚(hou)(hou)度。在(zai)(zai)(zai)測(ce)量(liang)(liang)(liang)任(ren)何(he)多(duo)(duo)個層次的(de)(de)時(shi)候，諸如光(guang)(guang)譜反射(she)(she)率和橢偏儀之(zhi)類的(de)(de)光(guang)(guang)學(xue)技(ji)術需要測(ce)量(liang)(liang)(liang)或(huo)建(jian)模估算每一(yi)個層次的(de)(de)厚(hou)(hou)度和光(guang)(guang)學(xue)常數(shu)(反射(she)(she)率和k值)。不幸的(de)(de)是，使得(de)氧(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)(hua)銦(yin)錫(xi)和其他透(tou)明導(dao)(dao)電(dian)(dian)氧(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)(hua)物(wu)在(zai)(zai)(zai)顯(xian)(xian)示器(qi)(qi)有(you)用的(de)(de)特(te)性，同樣使這些薄膜(mo)層難以測(ce)量(liang)(liang)(liang)和建(jian)模，從而(er)使測(ce)量(liang)(liang)(liang)在(zai)(zai)(zai)它們之(zhi)上的(de)(de)任(ren)何(he)物(wu)質變(bian)得(de)困難。Filmetrics的(de)(de)氧(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)(hua)銦(yin)錫(xi)解(jie)決方(fang)(fang)案Filmetrics已經(jing)開發(fa)出(chu)簡(jian)便易行(xing)而(er)經(jing)濟有(you)效的(de)(de)方(fang)(fang)法(fa)，利(li)用光(guang)(guang)譜反射(she)(she)率精確測(ce)量(liang)(liang)(liang)氧(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)(hua)銦(yin)錫(xi)。將新型(xing)的(de)(de)氧(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)(hua)銦(yin)錫(xi)模式和F20-EXR,很(hen)寬的(de)(de)400-1700nm波(bo)長(chang)相(xiang)結合，從而(er)實現氧(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)(hua)銦(yin)錫(xi)可靠的(de)(de)“一(yi)鍵”分析。氧(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)(hua)銦(yin)錫(xi)層的(de)(de)特(te)性一(yi)旦得(de)到(dao)確定，剩余顯(xian)(xian)示層分析的(de)(de)關(guan)鍵就解(jie)決了。晶(jing)圓(yuan)膜(mo)厚(hou)(hou)儀輪廓測(ce)量(liang)(liang)(liang)應用

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