在白(bai)光(guang)(guang)(guang)反(fan)(fan)(fan)射(she)(she)光(guang)(guang)(guang)譜(pu)探測模(mo)塊(kuai)(kuai)中(zhong)，入射(she)(she)光(guang)(guang)(guang)經過分(fen)光(guang)(guang)(guang)鏡1分(fen)光(guang)(guang)(guang)后(hou)(hou)，一部(bu)分(fen)光(guang)(guang)(guang)通(tong)(tong)過物(wu)(wu)鏡聚(ju)焦到靶(ba)丸(wan)(wan)(wan)表(biao)面(mian)，靶(ba)丸(wan)(wan)(wan)殼層上(shang)、下表(biao)面(mian)的(de)(de)反(fan)(fan)(fan)射(she)(she)光(guang)(guang)(guang)經過物(wu)(wu)鏡、分(fen)光(guang)(guang)(guang)鏡1、聚(ju)焦透(tou)鏡、分(fen)光(guang)(guang)(guang)鏡2后(hou)(hou)，一部(bu)分(fen)光(guang)(guang)(guang)聚(ju)焦到光(guang)(guang)(guang)纖(xian)端面(mian)并到達光(guang)(guang)(guang)譜(pu)儀探測器，可(ke)實現靶(ba)丸(wan)(wan)(wan)殼層白(bai)光(guang)(guang)(guang)干涉光(guang)(guang)(guang)譜(pu)的(de)(de)測量，一部(bu)分(fen)光(guang)(guang)(guang)到達CCD探測器，可(ke)獲得靶(ba)丸(wan)(wan)(wan)表(biao)面(mian)的(de)(de)光(guang)(guang)(guang)學(xue)圖(tu)像(xiang)。靶(ba)丸(wan)(wan)(wan)吸附(fu)轉(zhuan)位(wei)(wei)(wei)模(mo)塊(kuai)(kuai)和三(san)維運動模(mo)塊(kuai)(kuai)分(fen)別用于靶(ba)丸(wan)(wan)(wan)的(de)(de)吸附(fu)定(ding)位(wei)(wei)(wei)以(yi)及靶(ba)丸(wan)(wan)(wan)特(te)定(ding)角(jiao)度轉(zhuan)位(wei)(wei)(wei)以(yi)及靶(ba)丸(wan)(wan)(wan)位(wei)(wei)(wei)置的(de)(de)輔助調(diao)整(zheng)，測量過程中(zhong)，將靶(ba)丸(wan)(wan)(wan)放(fang)置于軸系(xi)吸嘴前端，通(tong)(tong)過微型(xing)真空泵負壓吸附(fu)于吸嘴上(shang)；然(ran)后(hou)(hou)，移(yi)動位(wei)(wei)(wei)移(yi)平臺，將靶(ba)丸(wan)(wan)(wan)移(yi)動至CCD視場中(zhong)心(xin)(xin)，通(tong)(tong)過Z向位(wei)(wei)(wei)移(yi)臺，使(shi)靶(ba)丸(wan)(wan)(wan)表(biao)面(mian)成像(xiang)清(qing)晰；利用光(guang)(guang)(guang)譜(pu)儀探測靶(ba)丸(wan)(wan)(wan)殼層的(de)(de)白(bai)光(guang)(guang)(guang)反(fan)(fan)(fan)射(she)(she)光(guang)(guang)(guang)譜(pu)；靶(ba)丸(wan)(wan)(wan)在軸系(xi)的(de)(de)帶動下，平穩轉(zhuan)位(wei)(wei)(wei)到特(te)定(ding)角(jiao)度，由于軸系(xi)的(de)(de)回轉(zhuan)誤差，轉(zhuan)位(wei)(wei)(wei)后(hou)(hou)靶(ba)丸(wan)(wan)(wan)可(ke)能偏移(yi)CCD視場中(zhong)心(xin)(xin)，此時可(ke)通(tong)(tong)過調(diao)整(zheng)軸系(xi)前端的(de)(de)調(diao)心(xin)(xin)結(jie)(jie)構，使(shi)靶(ba)丸(wan)(wan)(wan)定(ding)點位(wei)(wei)(wei)于視場中(zhong)心(xin)(xin)并采集其白(bai)光(guang)(guang)(guang)反(fan)(fan)(fan)射(she)(she)光(guang)(guang)(guang)譜(pu)；重復以(yi)上(shang)步驟，可(ke)實現靶(ba)丸(wan)(wan)(wan)特(te)定(ding)位(wei)(wei)(wei)置或圓周輪(lun)廓白(bai)光(guang)(guang)(guang)反(fan)(fan)(fan)射(she)(she)光(guang)(guang)(guang)譜(pu)數據(ju)的(de)(de)測量。為減少(shao)外界干擾和震動而引起的(de)(de)測量誤差，該裝置放(fang)置于氣浮平臺上(shang)，通(tong)(tong)過高性能的(de)(de)隔振效果可(ke)保(bao)證測量結(jie)(jie)果的(de)(de)穩定(ding)性。白(bai)光(guang)(guang)(guang)干涉膜(mo)厚(hou)測量技術可(ke)以(yi)應用于光(guang)(guang)(guang)學(xue)涂層中(zhong)的(de)(de)薄膜(mo)反(fan)(fan)(fan)射(she)(she)率測量。襄陽防水(shui)膜(mo)厚(hou)儀

白(bai)光(guang)掃(sao)描(miao)(miao)干涉(she)法采用白(bai)光(guang)為光(guang)源，壓電(dian)陶瓷驅動參考鏡進(jin)行掃(sao)描(miao)(miao)，干涉(she)條(tiao)紋掃(sao)過(guo)被(bei)測面，通過(guo)感知相干峰位置來獲得(de)表面形貌信(xin)息。測量(liang)(liang)原理圖(tu)如圖(tu)1-5所示。而對(dui)于薄膜的(de)(de)測量(liang)(liang)，上下表面形貌、粗糙度、厚(hou)度等信(xin)息能(neng)通過(guo)一(yi)次測量(liang)(liang)得(de)到，但是由于薄膜上下表面的(de)(de)反(fan)射，會使提取出來的(de)(de)白(bai)光(guang)干涉(she)信(xin)號出現雙峰形式，變得(de)更復雜。另外，由于白(bai)光(guang)掃(sao)描(miao)(miao)法需(xu)要(yao)掃(sao)描(miao)(miao)過(guo)程，因此(ci)測量(liang)(liang)時間較長而且易(yi)受外界干擾。基于圖(tu)像分(fen)割技術的(de)(de)薄膜結(jie)構測試方法，實(shi)現了對(dui)雙峰干涉(she)信(xin)號的(de)(de)自動分(fen)離(li)，實(shi)現了薄膜厚(hou)度的(de)(de)測量(liang)(liang)。北京膜厚(hou)儀成本價白(bai)光(guang)干涉(she)膜厚(hou)測量(liang)(liang)技術的(de)(de)應用涵蓋了材料科(ke)學、光(guang)學制造、電(dian)子工業等多(duo)個領域。

常用(yong)(yong)白(bai)光(guang)(guang)(guang)垂直掃描干(gan)(gan)涉(she)(she)系統的(de)(de)原理示意圖(tu)，入射(she)的(de)(de)白(bai)光(guang)(guang)(guang)光(guang)(guang)(guang)束通過(guo)半反半透鏡(jing)進入到顯微干(gan)(gan)涉(she)(she)物鏡(jing)后(hou)(hou)，被分(fen)光(guang)(guang)(guang)鏡(jing)分(fen)成兩部分(fen)，一個(ge)(ge)部分(fen)入射(she)到固(gu)定(ding)的(de)(de)參(can)考鏡(jing)，一部分(fen)入射(she)到樣品表(biao)面(mian)(mian)(mian)，當參(can)考鏡(jing)表(biao)面(mian)(mian)(mian)和樣品表(biao)面(mian)(mian)(mian)的(de)(de)反射(she)光(guang)(guang)(guang)通過(guo)分(fen)光(guang)(guang)(guang)鏡(jing)后(hou)(hou)，再次匯聚(ju)發生干(gan)(gan)涉(she)(she)，干(gan)(gan)涉(she)(she)光(guang)(guang)(guang)通過(guo)透鏡(jing)后(hou)(hou)，利(li)用(yong)(yong)電(dian)荷耦(ou)合(he)器(CCD)可(ke)探測整個(ge)(ge)視場(chang)內(nei)雙白(bai)光(guang)(guang)(guang)光(guang)(guang)(guang)束的(de)(de)干(gan)(gan)涉(she)(she)圖(tu)像。利(li)用(yong)(yong)Z向精密(mi)位(wei)移臺帶(dai)動干(gan)(gan)涉(she)(she)鏡(jing)頭或(huo)樣品臺Z向掃描，可(ke)獲(huo)得一系列(lie)的(de)(de)干(gan)(gan)涉(she)(she)圖(tu)像。根據干(gan)(gan)涉(she)(she)圖(tu)像序列(lie)中對(dui)應(ying)點(dian)的(de)(de)光(guang)(guang)(guang)強(qiang)(qiang)隨光(guang)(guang)(guang)程差變化(hua)曲線，可(ke)得該點(dian)的(de)(de)Z向相對(dui)位(wei)移；然后(hou)(hou)，由CCD圖(tu)像中每個(ge)(ge)像素點(dian)光(guang)(guang)(guang)強(qiang)(qiang)最大值對(dui)應(ying)的(de)(de)Z向位(wei)置獲(huo)得被測樣品表(biao)面(mian)(mian)(mian)的(de)(de)三維形(xing)貌。

在納(na)米量級薄(bo)(bo)膜(mo)(mo)(mo)(mo)的(de)(de)(de)(de)(de)各項相(xiang)關參(can)數(shu)中(zhong)(zhong)，薄(bo)(bo)膜(mo)(mo)(mo)(mo)材(cai)(cai)料的(de)(de)(de)(de)(de)厚(hou)度(du)是薄(bo)(bo)膜(mo)(mo)(mo)(mo)設計和(he)制備(bei)過(guo)程中(zhong)(zhong)的(de)(de)(de)(de)(de)重要參(can)數(shu)，是決定薄(bo)(bo)膜(mo)(mo)(mo)(mo)性(xing)質和(he)性(xing)能的(de)(de)(de)(de)(de)基本參(can)量之一，它對于(yu)(yu)薄(bo)(bo)膜(mo)(mo)(mo)(mo)的(de)(de)(de)(de)(de)光學(xue)(xue)、力(li)學(xue)(xue)和(he)電磁性(xing)能等(deng)都有(you)重要的(de)(de)(de)(de)(de)影響(xiang)[3]。但是由于(yu)(yu)納(na)米量級薄(bo)(bo)膜(mo)(mo)(mo)(mo)的(de)(de)(de)(de)(de)極小尺寸及其(qi)(qi)突(tu)出的(de)(de)(de)(de)(de)表面效應，使得對其(qi)(qi)厚(hou)度(du)的(de)(de)(de)(de)(de)準確測(ce)(ce)(ce)(ce)(ce)量變得困難(nan)。經過(guo)眾多科研技(ji)術人員(yuan)的(de)(de)(de)(de)(de)探索和(he)研究，新(xin)的(de)(de)(de)(de)(de)薄(bo)(bo)膜(mo)(mo)(mo)(mo)厚(hou)度(du)測(ce)(ce)(ce)(ce)(ce)量理論(lun)和(he)測(ce)(ce)(ce)(ce)(ce)量技(ji)術不斷涌(yong)現，測(ce)(ce)(ce)(ce)(ce)量方(fang)法(fa)實現了(le)從手動到自動，有(you)損(sun)到無損(sun)測(ce)(ce)(ce)(ce)(ce)量。由于(yu)(yu)待測(ce)(ce)(ce)(ce)(ce)薄(bo)(bo)膜(mo)(mo)(mo)(mo)材(cai)(cai)料的(de)(de)(de)(de)(de)性(xing)質不同，其(qi)(qi)適用(yong)的(de)(de)(de)(de)(de)厚(hou)度(du)測(ce)(ce)(ce)(ce)(ce)量方(fang)案也(ye)不盡相(xiang)同。對于(yu)(yu)厚(hou)度(du)在納(na)米量級的(de)(de)(de)(de)(de)薄(bo)(bo)膜(mo)(mo)(mo)(mo)，利用(yong)光學(xue)(xue)原理的(de)(de)(de)(de)(de)測(ce)(ce)(ce)(ce)(ce)量技(ji)術應用(yong)。相(xiang)比于(yu)(yu)其(qi)(qi)他方(fang)法(fa)，光學(xue)(xue)測(ce)(ce)(ce)(ce)(ce)量方(fang)法(fa)因為具有(you)精度(du)高(gao)，速度(du)快，無損(sun)測(ce)(ce)(ce)(ce)(ce)量等(deng)優(you)勢而成(cheng)為主要的(de)(de)(de)(de)(de)檢測(ce)(ce)(ce)(ce)(ce)手段。其(qi)(qi)中(zhong)(zhong)具有(you)代表性(xing)的(de)(de)(de)(de)(de)測(ce)(ce)(ce)(ce)(ce)量方(fang)法(fa)有(you)橢圓偏振法(fa)，干(gan)涉(she)(she)法(fa)，光譜法(fa)，棱鏡耦合法(fa)等(deng)。白光干(gan)涉(she)(she)膜(mo)(mo)(mo)(mo)厚(hou)測(ce)(ce)(ce)(ce)(ce)量技(ji)術的(de)(de)(de)(de)(de)發展將(jiang)促進相(xiang)關產(chan)業的(de)(de)(de)(de)(de)發展和(he)科學(xue)(xue)技(ji)術的(de)(de)(de)(de)(de)進步。

微(wei)(wei)(wei)納制(zhi)造(zao)技(ji)術的(de)(de)(de)(de)發展推(tui)動(dong)著(zhu)檢測(ce)(ce)(ce)(ce)技(ji)術向(xiang)微(wei)(wei)(wei)納領(ling)域(yu)(yu)(yu)進軍，微(wei)(wei)(wei)結構(gou)和(he)薄(bo)膜結構(gou)作為微(wei)(wei)(wei)納器(qi)件中(zhong)的(de)(de)(de)(de)重要組成部分，在半導體、醫學(xue)、航天航空、現代(dai)制(zhi)造(zao)等領(ling)域(yu)(yu)(yu)得到了廣(guang)泛(fan)的(de)(de)(de)(de)應用，由(you)于其微(wei)(wei)(wei)小和(he)精細的(de)(de)(de)(de)特征，傳(chuan)統檢測(ce)(ce)(ce)(ce)方法不能滿足要求。白光(guang)(guang)干(gan)涉法具(ju)有(you)非接觸、無損(sun)傷(shang)、高精度(du)等特點，被廣(guang)泛(fan)應用在微(wei)(wei)(wei)納檢測(ce)(ce)(ce)(ce)領(ling)域(yu)(yu)(yu)，另外光(guang)(guang)譜(pu)測(ce)(ce)(ce)(ce)量(liang)具(ju)有(you)高效率、測(ce)(ce)(ce)(ce)量(liang)速度(du)快(kuai)的(de)(de)(de)(de)優(you)點。因此，本文(wen)提(ti)出(chu)了白光(guang)(guang)干(gan)涉光(guang)(guang)譜(pu)測(ce)(ce)(ce)(ce)量(liang)方法并(bing)搭建了測(ce)(ce)(ce)(ce)量(liang)系統。和(he)傳(chuan)統白光(guang)(guang)掃描干(gan)涉方法相比，其特點是具(ju)有(you)較強的(de)(de)(de)(de)環境噪聲(sheng)抵御能力，并(bing)且測(ce)(ce)(ce)(ce)量(liang)速度(du)較快(kuai)。該技(ji)術可以通過測(ce)(ce)(ce)(ce)量(liang)干(gan)涉曲線來計算薄(bo)膜的(de)(de)(de)(de)厚(hou)(hou)度(du)。湘(xiang)西膜厚(hou)(hou)儀(yi)推(tui)薦(jian)廠家(jia)

白光干(gan)(gan)涉膜(mo)厚測量技術可以(yi)通(tong)過對(dui)干(gan)(gan)涉曲線的(de)分析(xi)實現對(dui)薄膜(mo)的(de)厚度(du)分布的(de)測量和分析(xi)。襄陽(yang)防(fang)水(shui)膜(mo)厚儀(yi)

針對(dui)靶(ba)(ba)丸(wan)(wan)自身獨(du)特的(de)(de)特點(dian)及極端實(shi)(shi)驗(yan)條件需求，使得(de)靶(ba)(ba)丸(wan)(wan)參數(shu)(shu)的(de)(de)測(ce)(ce)(ce)(ce)試(shi)工作變(bian)得(de)異(yi)常復雜(za)。如(ru)何(he)精(jing)確地測(ce)(ce)(ce)(ce)定靶(ba)(ba)丸(wan)(wan)的(de)(de)光(guang)(guang)(guang)(guang)學(xue)(xue)參數(shu)(shu)，一(yi)直是激光(guang)(guang)(guang)(guang)聚變(bian)研究(jiu)者非常關注的(de)(de)課題。由于光(guang)(guang)(guang)(guang)學(xue)(xue)測(ce)(ce)(ce)(ce)量(liang)方(fang)法(fa)(fa)具有(you)無損、非接觸、測(ce)(ce)(ce)(ce)量(liang)效率(lv)高、操作簡便等(deng)優越(yue)性，靶(ba)(ba)丸(wan)(wan)參數(shu)(shu)測(ce)(ce)(ce)(ce)量(liang)通常采用(yong)(yong)(yong)光(guang)(guang)(guang)(guang)學(xue)(xue)測(ce)(ce)(ce)(ce)量(liang)方(fang)式。常用(yong)(yong)(yong)的(de)(de)光(guang)(guang)(guang)(guang)學(xue)(xue)參數(shu)(shu)測(ce)(ce)(ce)(ce)量(liang)手段很多，目前，常用(yong)(yong)(yong)于測(ce)(ce)(ce)(ce)量(liang)靶(ba)(ba)丸(wan)(wan)幾何(he)參數(shu)(shu)或光(guang)(guang)(guang)(guang)學(xue)(xue)參數(shu)(shu)的(de)(de)測(ce)(ce)(ce)(ce)量(liang)方(fang)法(fa)(fa)有(you)白光(guang)(guang)(guang)(guang)干(gan)(gan)涉法(fa)(fa)、光(guang)(guang)(guang)(guang)學(xue)(xue)顯微干(gan)(gan)涉法(fa)(fa)、激光(guang)(guang)(guang)(guang)差(cha)動共焦法(fa)(fa)等(deng)。靶(ba)(ba)丸(wan)(wan)殼(ke)層折射(she)(she)(she)率(lv)是沖擊波分時(shi)調(diao)控實(shi)(shi)驗(yan)研究(jiu)中的(de)(de)重要參數(shu)(shu)，因(yin)此(ci)，精(jing)密測(ce)(ce)(ce)(ce)量(liang)靶(ba)(ba)丸(wan)(wan)殼(ke)層折射(she)(she)(she)率(lv)十分有(you)意(yi)義。而常用(yong)(yong)(yong)的(de)(de)折射(she)(she)(she)率(lv)測(ce)(ce)(ce)(ce)量(liang)方(fang)法(fa)(fa)[13]，如(ru)橢圓偏(pian)振法(fa)(fa)、折射(she)(she)(she)率(lv)匹配(pei)法(fa)(fa)、白光(guang)(guang)(guang)(guang)光(guang)(guang)(guang)(guang)譜法(fa)(fa)、布(bu)儒斯特角(jiao)法(fa)(fa)等(deng)。襄陽防水(shui)膜厚儀

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