對同一靶丸(wan)(wan)相同位置(zhi)進行白(bai)光(guang)垂直掃描(miao)干(gan)(gan)涉(she)(she)，圖4-3是靶丸(wan)(wan)的(de)垂直掃描(miao)干(gan)(gan)涉(she)(she)示(shi)意圖，通過(guo)控制光(guang)學輪廓儀(yi)的(de)運(yun)動(dong)機構帶(dai)動(dong)干(gan)(gan)涉(she)(she)物鏡在垂直方(fang)向上的(de)移(yi)動(dong)，從而測(ce)量(liang)(liang)到(dao)光(guang)線(xian)穿過(guo)靶丸(wan)(wan)后反射到(dao)參考鏡與(yu)到(dao)達基底直接(jie)反射回參考鏡的(de)光(guang)線(xian)之間(jian)的(de)光(guang)程(cheng)差(cha)，顯然，當一束(shu)平行光(guang)穿過(guo)靶丸(wan)(wan)后，偏離靶丸(wan)(wan)中(zhong)心(xin)越遠的(de)光(guang)線(xian)，測(ce)量(liang)(liang)到(dao)的(de)有效壁(bi)厚越大，其光(guang)程(cheng)差(cha)也越大，但這(zhe)并不表示(shi)靶丸(wan)(wan)殼(ke)層(ceng)的(de)厚度，當垂直穿過(guo)靶丸(wan)(wan)中(zhong)心(xin)的(de)光(guang)線(xian)測(ce)得(de)的(de)光(guang)程(cheng)差(cha)才(cai)對應靶丸(wan)(wan)的(de)上、下(xia)殼(ke)層(ceng)的(de)厚度。白(bai)光(guang)干(gan)(gan)涉(she)(she)膜厚測(ce)量(liang)(liang)技術可以應用于(yu)材料科學中(zhong)的(de)薄膜微結構分析(xi)。順義區膜厚儀(yi)工(gong)廠

薄(bo)膜(mo)(mo)作為重要(yao)(yao)元(yuan)件，通常使用(yong)(yong)金屬、合金、化合物、聚合物等(deng)作為其主(zhu)要(yao)(yao)基(ji)材(cai)，品類涵蓋光(guang)(guang)學膜(mo)(mo)、電(dian)(dian)(dian)隔膜(mo)(mo)、阻隔膜(mo)(mo)、保(bao)護膜(mo)(mo)、裝飾膜(mo)(mo)等(deng)多(duo)種(zhong)功(gong)能性(xing)(xing)薄(bo)膜(mo)(mo)，廣泛應(ying)用(yong)(yong)于現代(dai)光(guang)(guang)學、電(dian)(dian)(dian)子(zi)、醫療、能源、建(jian)材(cai)等(deng)技(ji)(ji)術(shu)領(ling)域。常用(yong)(yong)薄(bo)膜(mo)(mo)的(de)(de)(de)(de)厚(hou)(hou)度(du)(du)范(fan)圍從納米(mi)(mi)級(ji)(ji)(ji)(ji)到(dao)微(wei)(wei)(wei)米(mi)(mi)級(ji)(ji)(ji)(ji)不等(deng)。納米(mi)(mi)和(he)亞微(wei)(wei)(wei)米(mi)(mi)級(ji)(ji)(ji)(ji)薄(bo)膜(mo)(mo)主(zhu)要(yao)(yao)是基(ji)于干(gan)涉效(xiao)應(ying)調制的(de)(de)(de)(de)光(guang)(guang)學薄(bo)膜(mo)(mo)，包括各種(zhong)增(zeng)透(tou)增(zeng)反膜(mo)(mo)、偏振(zhen)膜(mo)(mo)、干(gan)涉濾光(guang)(guang)片和(he)分(fen)光(guang)(guang)膜(mo)(mo)等(deng)。部(bu)分(fen)薄(bo)膜(mo)(mo)經特殊(shu)工藝處(chu)理后還具(ju)(ju)有耐高溫、耐腐蝕、耐磨損等(deng)特性(xing)(xing)，對通訊、顯示(shi)、存儲等(deng)領(ling)域內光(guang)(guang)學儀器的(de)(de)(de)(de)質量(liang)起決定性(xing)(xing)作用(yong)(yong)[1-3]，如平面(mian)顯示(shi)器使用(yong)(yong)的(de)(de)(de)(de)ITO鍍膜(mo)(mo)，太陽能電(dian)(dian)(dian)池表面(mian)的(de)(de)(de)(de)SiO2減反射膜(mo)(mo)等(deng)。微(wei)(wei)(wei)米(mi)(mi)級(ji)(ji)(ji)(ji)以上的(de)(de)(de)(de)薄(bo)膜(mo)(mo)以工農業薄(bo)膜(mo)(mo)為主(zhu)，多(duo)使用(yong)(yong)聚酯材(cai)料，具(ju)(ju)有易改性(xing)(xing)、可回(hui)收(shou)、適用(yong)(yong)范(fan)圍廣等(deng)特點。例如6微(wei)(wei)(wei)米(mi)(mi)厚(hou)(hou)度(du)(du)以下的(de)(de)(de)(de)電(dian)(dian)(dian)容器膜(mo)(mo)，20微(wei)(wei)(wei)米(mi)(mi)厚(hou)(hou)度(du)(du)以下的(de)(de)(de)(de)大部(bu)分(fen)包裝印刷用(yong)(yong)薄(bo)膜(mo)(mo)，25~38微(wei)(wei)(wei)米(mi)(mi)厚(hou)(hou)的(de)(de)(de)(de)建(jian)筑玻(bo)璃(li)貼膜(mo)(mo)及(ji)汽(qi)車貼膜(mo)(mo)，以及(ji)厚(hou)(hou)度(du)(du)為25~65微(wei)(wei)(wei)米(mi)(mi)的(de)(de)(de)(de)防偽標(biao)牌及(ji)拉線膠帶等(deng)。微(wei)(wei)(wei)米(mi)(mi)級(ji)(ji)(ji)(ji)薄(bo)膜(mo)(mo)利用(yong)(yong)其良好的(de)(de)(de)(de)延展、密封、絕緣(yuan)特性(xing)(xing)，遍及(ji)食品包裝、表面(mian)保(bao)護、磁帶基(ji)材(cai)、感光(guang)(guang)儲能等(deng)應(ying)用(yong)(yong)市(shi)場(chang)，加工速度(du)(du)快，市(shi)場(chang)占比高。濰坊(fang)膜(mo)(mo)厚(hou)(hou)儀生產廠(chang)家(jia)哪家(jia)好白光(guang)(guang)干(gan)涉膜(mo)(mo)厚(hou)(hou)測(ce)量(liang)技(ji)(ji)術(shu)可以實(shi)現對不同材(cai)料的(de)(de)(de)(de)薄(bo)膜(mo)(mo)進行測(ce)量(liang)。

光譜擬(ni)合(he)法(fa)(fa)易(yi)于測量(liang)(liang)具有應用(yong)領域，由于使(shi)(shi)用(yong)了迭代(dai)算(suan)(suan)法(fa)(fa)，因此(ci)該方(fang)法(fa)(fa)的(de)優缺(que)(que)點(dian)在很(hen)大程(cheng)度(du)上取決于所選擇的(de)算(suan)(suan)法(fa)(fa)。隨著(zhu)各種全局(ju)優化算(suan)(suan)法(fa)(fa)的(de)引(yin)入，遺傳算(suan)(suan)法(fa)(fa)和模擬(ni)退火算(suan)(suan)法(fa)(fa)等新算(suan)(suan)法(fa)(fa)被用(yong)于薄(bo)膜(mo)(mo)參數的(de)測量(liang)(liang)。其缺(que)(que)點(dian)是不(bu)夠實(shi)用(yong)，該方(fang)法(fa)(fa)需要(yao)一(yi)個較好的(de)薄(bo)膜(mo)(mo)的(de)光學模型(包括色散(san)系數、吸收(shou)系數、多(duo)層(ceng)膜(mo)(mo)系統(tong))，但是在實(shi)際(ji)測試(shi)過程(cheng)中(zhong)，薄(bo)膜(mo)(mo)的(de)色散(san)和吸收(shou)的(de)公式(shi)通常不(bu)準確，尤其是對于多(duo)層(ceng)膜(mo)(mo)體(ti)系，建立光學模型非常困難，無法(fa)(fa)用(yong)公式(shi)準確地表(biao)示出來。在實(shi)際(ji)應用(yong)中(zhong)只能使(shi)(shi)用(yong)簡化模型，因此(ci)，通常全光譜擬(ni)合(he)法(fa)(fa)不(bu)如極值法(fa)(fa)有效(xiao)。另外該方(fang)法(fa)(fa)的(de)計(ji)算(suan)(suan)速度(du)慢也不(bu)能滿足快速計(ji)算(suan)(suan)的(de)要(yao)求。

基于白光(guang)(guang)(guang)(guang)干(gan)(gan)涉(she)(she)光(guang)(guang)(guang)(guang)譜單峰(feng)(feng)(feng)(feng)值波(bo)長(chang)移動的(de)(de)(de)鍺(zang)膜(mo)(mo)厚(hou)(hou)(hou)度(du)(du)(du)(du)(du)(du)測(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)(liang)方案(an)(an)研究(jiu)：在對比研究(jiu)目前常用的(de)(de)(de)白光(guang)(guang)(guang)(guang)干(gan)(gan)涉(she)(she)測(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)(liang)方案(an)(an)的(de)(de)(de)基礎上，我們發現(xian)當兩(liang)干(gan)(gan)涉(she)(she)光(guang)(guang)(guang)(guang)束(shu)的(de)(de)(de)光(guang)(guang)(guang)(guang)程差(cha)(cha)非常小導致其干(gan)(gan)涉(she)(she)光(guang)(guang)(guang)(guang)譜只有一個干(gan)(gan)涉(she)(she)峰(feng)(feng)(feng)(feng)時，常用的(de)(de)(de)基于兩(liang)相(xiang)鄰干(gan)(gan)涉(she)(she)峰(feng)(feng)(feng)(feng)間距的(de)(de)(de)解調方案(an)(an)不再(zai)適用。為(wei)(wei)此，我們提(ti)出(chu)了適用于極小光(guang)(guang)(guang)(guang)程差(cha)(cha)的(de)(de)(de)基于干(gan)(gan)涉(she)(she)光(guang)(guang)(guang)(guang)譜單峰(feng)(feng)(feng)(feng)值波(bo)長(chang)移動的(de)(de)(de)測(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)(liang)方案(an)(an)。干(gan)(gan)涉(she)(she)光(guang)(guang)(guang)(guang)譜的(de)(de)(de)峰(feng)(feng)(feng)(feng)值波(bo)長(chang)會(hui)隨著光(guang)(guang)(guang)(guang)程差(cha)(cha)的(de)(de)(de)增大出(chu)現(xian)周期性(xing)的(de)(de)(de)紅移和藍(lan)移，當光(guang)(guang)(guang)(guang)程差(cha)(cha)在較小范圍內變化時，峰(feng)(feng)(feng)(feng)值波(bo)長(chang)的(de)(de)(de)移動與光(guang)(guang)(guang)(guang)程差(cha)(cha)成正比。根據這一原理，搭建(jian)了光(guang)(guang)(guang)(guang)纖白光(guang)(guang)(guang)(guang)干(gan)(gan)涉(she)(she)溫度(du)(du)(du)(du)(du)(du)傳感系統對這一測(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)(liang)解調方案(an)(an)進行(xing)驗證，得到了光(guang)(guang)(guang)(guang)纖端面半(ban)導體(ti)鍺(zang)薄(bo)膜(mo)(mo)的(de)(de)(de)厚(hou)(hou)(hou)度(du)(du)(du)(du)(du)(du)。實驗結(jie)(jie)果顯示(shi)鍺(zang)膜(mo)(mo)的(de)(de)(de)厚(hou)(hou)(hou)度(du)(du)(du)(du)(du)(du)為(wei)(wei)，與臺階儀測(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)(liang)結(jie)(jie)果存在，這是(shi)因為(wei)(wei)薄(bo)膜(mo)(mo)表面本身并不光(guang)(guang)(guang)(guang)滑，臺階儀的(de)(de)(de)測(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)(liang)結(jie)(jie)果只能作為(wei)(wei)參考值。鍺(zang)膜(mo)(mo)厚(hou)(hou)(hou)度(du)(du)(du)(du)(du)(du)測(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)(liang)誤(wu)差(cha)(cha)主(zhu)要來自(zi)光(guang)(guang)(guang)(guang)源的(de)(de)(de)波(bo)長(chang)漂(piao)移和溫度(du)(du)(du)(du)(du)(du)控制誤(wu)差(cha)(cha)。白光(guang)(guang)(guang)(guang)干(gan)(gan)涉(she)(she)膜(mo)(mo)厚(hou)(hou)(hou)測(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)(liang)技術(shu)可以(yi)應(ying)用于電子顯示(shi)器(qi)中的(de)(de)(de)薄(bo)膜(mo)(mo)厚(hou)(hou)(hou)度(du)(du)(du)(du)(du)(du)測(ce)(ce)量(liang)(liang)(liang)(liang)。

白(bai)光(guang)(guang)干涉(she)的(de)(de)分(fen)析方(fang)法(fa)(fa)(fa)利(li)(li)用(yong)(yong)(yong)白(bai)光(guang)(guang)干涉(she)感(gan)知空(kong)間位(wei)(wei)置的(de)(de)變化，從而(er)得到(dao)被測(ce)物(wu)體(ti)的(de)(de)信(xin)息(xi)。它是在單(dan)色光(guang)(guang)相(xiang)(xiang)(xiang)移(yi)干涉(she)術的(de)(de)基礎上(shang)發展而(er)來(lai)的(de)(de)。單(dan)色光(guang)(guang)相(xiang)(xiang)(xiang)移(yi)干涉(she)術利(li)(li)用(yong)(yong)(yong)光(guang)(guang)路使(shi)(shi)參考光(guang)(guang)和(he)被測(ce)表(biao)(biao)面的(de)(de)反射(she)光(guang)(guang)發生干涉(she)，再使(shi)(shi)用(yong)(yong)(yong)相(xiang)(xiang)(xiang)移(yi)的(de)(de)方(fang)法(fa)(fa)(fa)調制相(xiang)(xiang)(xiang)位(wei)(wei)，利(li)(li)用(yong)(yong)(yong)干涉(she)場中光(guang)(guang)強的(de)(de)變化計算(suan)出(chu)其每個(ge)數據(ju)點的(de)(de)初始相(xiang)(xiang)(xiang)位(wei)(wei)，但是這(zhe)樣(yang)得到(dao)的(de)(de)相(xiang)(xiang)(xiang)位(wei)(wei)是位(wei)(wei)于(yu)（-π，+π]間，所(suo)以得到(dao)的(de)(de)是不(bu)連續的(de)(de)相(xiang)(xiang)(xiang)位(wei)(wei)。因(yin)此，需要進行相(xiang)(xiang)(xiang)位(wei)(wei)展開使(shi)(shi)其變為連續相(xiang)(xiang)(xiang)位(wei)(wei)。再利(li)(li)用(yong)(yong)(yong)高度(du)與相(xiang)(xiang)(xiang)位(wei)(wei)的(de)(de)信(xin)息(xi)求出(chu)被測(ce)物(wu)體(ti)的(de)(de)表(biao)(biao)面形貌。單(dan)色光(guang)(guang)相(xiang)(xiang)(xiang)移(yi)法(fa)(fa)(fa)具有測(ce)量速度(du)快、測(ce)量分(fen)辨力高、對背景光(guang)(guang)強不(bu)敏感(gan)等優點。但是，由于(yu)單(dan)色光(guang)(guang)干涉(she)無法(fa)(fa)(fa)確(que)定干涉(she)條紋的(de)(de)零級位(wei)(wei)置。因(yin)此，在相(xiang)(xiang)(xiang)位(wei)(wei)解包裹中無法(fa)(fa)(fa)得到(dao)相(xiang)(xiang)(xiang)位(wei)(wei)差(cha)的(de)(de)周期數，所(suo)以只能(neng)假(jia)定相(xiang)(xiang)(xiang)位(wei)(wei)差(cha)不(bu)超過(guo)(guo)一個(ge)周期，相(xiang)(xiang)(xiang)當(dang)于(yu)測(ce)試表(biao)(biao)面的(de)(de)相(xiang)(xiang)(xiang)鄰高度(du)不(bu)能(neng)超過(guo)(guo)四分(fen)之一波長(chang)[27]。這(zhe)就限制了其測(ce)量的(de)(de)范圍，使(shi)(shi)它只能(neng)測(ce)試連續結(jie)構(gou)或者光(guang)(guang)滑(hua)表(biao)(biao)面結(jie)構(gou)。該(gai)技術可以通過(guo)(guo)測(ce)量干涉(she)曲(qu)線(xian)來(lai)計算(suan)薄膜的(de)(de)厚(hou)度(du)。山西膜厚(hou)儀制造(zao)廠(chang)家

白光干(gan)涉膜厚測量(liang)技術(shu)可以在不同(tong)環境下進(jin)行測量(liang)。順義(yi)區(qu)膜厚儀工廠

在(zai)激(ji)光(guang)(guang)慣(guan)性(xing)約(yue)(yue)束核(he)聚(ju)變實(shi)驗(yan)中，靶(ba)(ba)丸(wan)(wan)(wan)(wan)的(de)物性(xing)參(can)(can)數(shu)(shu)和(he)幾何(he)參(can)(can)數(shu)(shu)是(shi)靶(ba)(ba)丸(wan)(wan)(wan)(wan)制備工藝(yi)(yi)改進(jin)和(he)仿真模擬核(he)聚(ju)變實(shi)驗(yan)過程的(de)基礎，因此(ci)如何(he)對靶(ba)(ba)丸(wan)(wan)(wan)(wan)多(duo)(duo)個參(can)(can)數(shu)(shu)進(jin)行(xing)同步(bu)、高精(jing)度、無損的(de)綜合檢測(ce)(ce)(ce)是(shi)激(ji)光(guang)(guang)慣(guan)性(xing)約(yue)(yue)束核(he)聚(ju)變實(shi)驗(yan)中的(de)關鍵問題(ti)。以(yi)上各種(zhong)薄膜(mo)厚度及折射率的(de)測(ce)(ce)(ce)量(liang)(liang)方法(fa)(fa)各有(you)利弊，但針(zhen)對本文實(shi)驗(yan)，仍然無法(fa)(fa)滿足激(ji)光(guang)(guang)核(he)聚(ju)變技術對靶(ba)(ba)丸(wan)(wan)(wan)(wan)參(can)(can)數(shu)(shu)測(ce)(ce)(ce)量(liang)(liang)的(de)高要(yao)求(qiu)，靶(ba)(ba)丸(wan)(wan)(wan)(wan)參(can)(can)數(shu)(shu)測(ce)(ce)(ce)量(liang)(liang)存在(zai)以(yi)下問題(ti)：不(bu)能對靶(ba)(ba)丸(wan)(wan)(wan)(wan)進(jin)行(xing)破壞性(xing)切割測(ce)(ce)(ce)量(liang)(liang)，否則(ze)，被破壞后的(de)靶(ba)(ba)丸(wan)(wan)(wan)(wan)無法(fa)(fa)用于于下一步(bu)工藝(yi)(yi)處理(li)或者打靶(ba)(ba)實(shi)驗(yan)；需要(yao)同時(shi)測(ce)(ce)(ce)得靶(ba)(ba)丸(wan)(wan)(wan)(wan)的(de)多(duo)(duo)個參(can)(can)數(shu)(shu)，不(bu)同參(can)(can)數(shu)(shu)的(de)單(dan)獨測(ce)(ce)(ce)量(liang)(liang)，無法(fa)(fa)提(ti)供靶(ba)(ba)丸(wan)(wan)(wan)(wan)制備和(he)核(he)聚(ju)變反(fan)應(ying)過程中發生的(de)結構變化現象和(he)規律，并(bing)且效率低下、沒有(you)統一的(de)測(ce)(ce)(ce)量(liang)(liang)標準。靶(ba)(ba)丸(wan)(wan)(wan)(wan)屬(shu)于自支撐球形薄膜(mo)結構，曲面應(ying)力大、難展平的(de)特(te)點導致靶(ba)(ba)丸(wan)(wan)(wan)(wan)與(yu)基底(di)不(bu)能完(wan)全貼(tie)合，在(zai)微區(qu)內可看作類薄膜(mo)結構順義區(qu)膜(mo)厚儀(yi)工廠

本文(wen)來自(zi)四川精碳偉業(ye)環保科(ke)技有限責任公司：//wasul.cn/Article/5c39199603.html