白(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)(guang)干(gan)涉(she)的(de)(de)(de)(de)(de)相干(gan)原(yuan)理(li)(li)早在1975年(nian)就已經被(bei)提(ti)出，隨(sui)后(hou)于(yu)(yu)1976年(nian)在光(guang)(guang)(guang)(guang)纖通信領域中獲得了(le)實現。1983年(nian)，BrianCulshaw的(de)(de)(de)(de)(de)研(yan)究(jiu)小組報道了(le)白(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)(guang)干(gan)涉(she)技(ji)(ji)術在光(guang)(guang)(guang)(guang)纖傳感(gan)(gan)(gan)領域中的(de)(de)(de)(de)(de)應用(yong)。隨(sui)后(hou)在1984年(nian)，報道了(le)基于(yu)(yu)白(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)(guang)干(gan)涉(she)原(yuan)理(li)(li)的(de)(de)(de)(de)(de)完(wan)整的(de)(de)(de)(de)(de)位(wei)移(yi)傳感(gan)(gan)(gan)系統。該(gai)研(yan)究(jiu)成果證明(ming)了(le)白(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)(guang)干(gan)涉(she)技(ji)(ji)術可(ke)以被(bei)用(yong)于(yu)(yu)測量(liang)能夠轉換成位(wei)移(yi)的(de)(de)(de)(de)(de)物理(li)(li)參量(liang)。此后(hou)的(de)(de)(de)(de)(de)幾年(nian)間，白(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)(guang)干(gan)涉(she)應用(yong)于(yu)(yu)溫(wen)度、壓力等(deng)的(de)(de)(de)(de)(de)研(yan)究(jiu)相繼被(bei)報道。自上世(shi)紀(ji)九十年(nian)代以來(lai)，白(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)(guang)干(gan)涉(she)技(ji)(ji)術快速發(fa)展(zhan)，提(ti)供了(le)實現測量(liang)的(de)(de)(de)(de)(de)更(geng)多(duo)(duo)的(de)(de)(de)(de)(de)解決(jue)方案。近幾年(nian)以來(lai)，由于(yu)(yu)傳感(gan)(gan)(gan)器(qi)設(she)計與研(yan)制的(de)(de)(de)(de)(de)進步，信號處理(li)(li)新方案的(de)(de)(de)(de)(de)提(ti)出，以及(ji)傳感(gan)(gan)(gan)器(qi)的(de)(de)(de)(de)(de)多(duo)(duo)路復用(yong)[39]等(deng)技(ji)(ji)術的(de)(de)(de)(de)(de)發(fa)展(zhan)，使得白(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)(guang)干(gan)涉(she)測量(liang)技(ji)(ji)術的(de)(de)(de)(de)(de)發(fa)展(zhan)更(geng)加迅(xun)光(guang)(guang)(guang)(guang)干(gan)涉(she)膜(mo)厚測量(liang)技(ji)(ji)術的(de)(de)(de)(de)(de)研(yan)究(jiu)需要對光(guang)(guang)(guang)(guang)學(xue)理(li)(li)論和光(guang)(guang)(guang)(guang)學(xue)儀器(qi)有較深入的(de)(de)(de)(de)(de)了(le)解。孝感(gan)(gan)(gan)膜(mo)厚儀定做

白光(guang)(guang)(guang)干(gan)(gan)涉(she)(she)頻(pin)(pin)域(yu)(yu)(yu)解(jie)(jie)(jie)(jie)調(diao)(diao)(diao)顧名思(si)義(yi)是在頻(pin)(pin)域(yu)(yu)(yu)分(fen)(fen)析解(jie)(jie)(jie)(jie)調(diao)(diao)(diao)信號，測(ce)量(liang)裝置(zhi)與(yu)(yu)時域(yu)(yu)(yu)解(jie)(jie)(jie)(jie)調(diao)(diao)(diao)裝置(zhi)幾乎相同，只需把光(guang)(guang)(guang)強(qiang)測(ce)量(liang)裝置(zhi)換為光(guang)(guang)(guang)譜(pu)(pu)儀(yi)(yi)或(huo)者是CCD，接收(shou)到(dao)的(de)信號是光(guang)(guang)(guang)強(qiang)隨著光(guang)(guang)(guang)波長(chang)的(de)分(fen)(fen)布(bu)。由于(yu)時域(yu)(yu)(yu)解(jie)(jie)(jie)(jie)調(diao)(diao)(diao)中接收(shou)到(dao)的(de)信號是一(yi)定范(fan)圍內所(suo)有波長(chang)的(de)光(guang)(guang)(guang)強(qiang)疊加(jia)(jia)，因此將頻(pin)(pin)譜(pu)(pu)信號中各(ge)個(ge)波長(chang)的(de)光(guang)(guang)(guang)強(qiang)疊加(jia)(jia)，即可(ke)得到(dao)與(yu)(yu)它對(dui)應(ying)的(de)時域(yu)(yu)(yu)接收(shou)信號。由此可(ke)見(jian)，頻(pin)(pin)域(yu)(yu)(yu)的(de)白光(guang)(guang)(guang)干(gan)(gan)涉(she)(she)條(tiao)紋(wen)不僅包含了時域(yu)(yu)(yu)白光(guang)(guang)(guang)干(gan)(gan)涉(she)(she)條(tiao)紋(wen)的(de)所(suo)有信息，還(huan)包含了時域(yu)(yu)(yu)干(gan)(gan)涉(she)(she)條(tiao)紋(wen)中沒有的(de)波長(chang)信息。在頻(pin)(pin)域(yu)(yu)(yu)干(gan)(gan)涉(she)(she)中，當(dang)兩束(shu)相干(gan)(gan)光(guang)(guang)(guang)的(de)光(guang)(guang)(guang)程(cheng)差遠大于(yu)光(guang)(guang)(guang)源的(de)相干(gan)(gan)長(chang)度時，仍可(ke)以在光(guang)(guang)(guang)譜(pu)(pu)儀(yi)(yi)上(shang)觀察到(dao)頻(pin)(pin)域(yu)(yu)(yu)干(gan)(gan)涉(she)(she)條(tiao)紋(wen)。這(zhe)是由于(yu)光(guang)(guang)(guang)譜(pu)(pu)儀(yi)(yi)內部(bu)的(de)光(guang)(guang)(guang)柵(zha)具有分(fen)(fen)光(guang)(guang)(guang)作用，能夠(gou)將寬譜(pu)(pu)光(guang)(guang)(guang)變成窄帶(dai)光(guang)(guang)(guang)譜(pu)(pu)，從而增加(jia)(jia)了光(guang)(guang)(guang)譜(pu)(pu)的(de)相干(gan)(gan)長(chang)度。這(zhe)一(yi)解(jie)(jie)(jie)(jie)調(diao)(diao)(diao)技術的(de)優點就是在整個(ge)測(ce)量(liang)系統中沒有使用機(ji)械掃描部(bu)件，從而在測(ce)量(liang)的(de)穩定性(xing)和可(ke)靠性(xing)上(shang)得到(dao)很大的(de)提高。常見(jian)的(de)頻(pin)(pin)域(yu)(yu)(yu)解(jie)(jie)(jie)(jie)調(diao)(diao)(diao)方法有峰峰值檢(jian)測(ce)法、傅里葉解(jie)(jie)(jie)(jie)調(diao)(diao)(diao)法以及傅里葉變換白光(guang)(guang)(guang)干(gan)(gan)涉(she)(she)解(jie)(jie)(jie)(jie)調(diao)(diao)(diao)法等。永州膜厚(hou)(hou)儀(yi)(yi)誠信企業推薦(jian)白光(guang)(guang)(guang)干(gan)(gan)涉(she)(she)膜厚(hou)(hou)測(ce)量(liang)技術可(ke)以通過(guo)對(dui)干(gan)(gan)涉(she)(she)圖像的(de)分(fen)(fen)析實現對(dui)薄膜的(de)缺陷檢(jian)測(ce)和分(fen)(fen)析。

常用白(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)垂直(zhi)掃描干(gan)涉(she)(she)(she)系統的(de)(de)(de)(de)(de)原理示(shi)意圖，入(ru)射的(de)(de)(de)(de)(de)白(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)光(guang)(guang)(guang)束(shu)通(tong)過半(ban)反半(ban)透(tou)鏡(jing)(jing)進入(ru)到顯微干(gan)涉(she)(she)(she)物鏡(jing)(jing)后(hou)(hou)，被分(fen)光(guang)(guang)(guang)鏡(jing)(jing)分(fen)成兩部分(fen)，一(yi)(yi)個(ge)(ge)部分(fen)入(ru)射到固定的(de)(de)(de)(de)(de)參考(kao)鏡(jing)(jing)，一(yi)(yi)部分(fen)入(ru)射到樣(yang)(yang)品(pin)表(biao)面(mian)(mian)，當(dang)參考(kao)鏡(jing)(jing)表(biao)面(mian)(mian)和樣(yang)(yang)品(pin)表(biao)面(mian)(mian)的(de)(de)(de)(de)(de)反射光(guang)(guang)(guang)通(tong)過分(fen)光(guang)(guang)(guang)鏡(jing)(jing)后(hou)(hou)，再次匯聚發生干(gan)涉(she)(she)(she)，干(gan)涉(she)(she)(she)光(guang)(guang)(guang)通(tong)過透(tou)鏡(jing)(jing)后(hou)(hou)，利(li)用電(dian)荷耦合器(CCD)可探(tan)測整(zheng)個(ge)(ge)視場內雙(shuang)白(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)光(guang)(guang)(guang)束(shu)的(de)(de)(de)(de)(de)干(gan)涉(she)(she)(she)圖像(xiang)。利(li)用Z向(xiang)精密位(wei)移臺帶動干(gan)涉(she)(she)(she)鏡(jing)(jing)頭或樣(yang)(yang)品(pin)臺Z向(xiang)掃描，可獲得一(yi)(yi)系列的(de)(de)(de)(de)(de)干(gan)涉(she)(she)(she)圖像(xiang)。根據(ju)干(gan)涉(she)(she)(she)圖像(xiang)序(xu)列中對(dui)(dui)應點的(de)(de)(de)(de)(de)光(guang)(guang)(guang)強隨光(guang)(guang)(guang)程差變化(hua)曲線，可得該點的(de)(de)(de)(de)(de)Z向(xiang)相對(dui)(dui)位(wei)移；然后(hou)(hou)，由CCD圖像(xiang)中每個(ge)(ge)像(xiang)素點光(guang)(guang)(guang)強最大值(zhi)對(dui)(dui)應的(de)(de)(de)(de)(de)Z向(xiang)位(wei)置(zhi)獲得被測樣(yang)(yang)品(pin)表(biao)面(mian)(mian)的(de)(de)(de)(de)(de)三(san)維(wei)形貌。

自上(shang)世紀60年(nian)代(dai)起(qi)，利用(yong)X及(ji)β射(she)線(xian)、近紅外(wai)光(guang)源(yuan)開發的(de)(de)在線(xian)薄(bo)(bo)膜(mo)(mo)測(ce)(ce)厚(hou)系(xi)(xi)統廣泛(fan)應用(yong)于(yu)(yu)西方(fang)先(xian)進國(guo)家的(de)(de)工業(ye)生產線(xian)中。20世紀70年(nian)代(dai)后(hou)，為滿足日(ri)益(yi)增長的(de)(de)質檢需求，電(dian)渦流、電(dian)磁(ci)電(dian)容(rong)、超聲(sheng)波、晶體振(zhen)蕩等多種膜(mo)(mo)厚(hou)測(ce)(ce)量(liang)技(ji)(ji)(ji)術相繼問世。90年(nian)代(dai)中期，隨著離(li)子(zi)輔助、離(li)子(zi)束濺射(she)、磁(ci)控濺射(she)、凝膠溶(rong)膠等新型薄(bo)(bo)膜(mo)(mo)制(zhi)(zhi)備技(ji)(ji)(ji)術取得(de)巨(ju)大突(tu)破，以(yi)橢圓偏振(zhen)法和光(guang)度(du)法為展示(shi)的(de)(de)光(guang)學(xue)檢測(ce)(ce)技(ji)(ji)(ji)術以(yi)高(gao)精度(du)、低成本、輕(qing)便(bian)環保、高(gao)速穩固為研發方(fang)向(xiang)不(bu)斷迭代(dai)更新，迅速占領日(ri)用(yong)電(dian)器及(ji)工業(ye)生產市場，并發展出依(yi)據用(yong)戶需求個性化定制(zhi)(zhi)產品的(de)(de)能(neng)力(li)。其(qi)中，對于(yu)(yu)市場份(fen)額(e)占比(bi)較(jiao)大的(de)(de)微(wei)米級薄(bo)(bo)膜(mo)(mo)，除要求測(ce)(ce)量(liang)系(xi)(xi)統不(bu)僅具有百(bai)納米級的(de)(de)測(ce)(ce)量(liang)準(zhun)確度(du)及(ji)分辨力(li)以(yi)外(wai)，還要求測(ce)(ce)量(liang)系(xi)(xi)統在存在不(bu)規則環境(jing)干(gan)擾(rao)的(de)(de)工業(ye)現場下，具備較(jiao)高(gao)的(de)(de)穩定性和抗干(gan)擾(rao)能(neng)力(li)。白光(guang)干(gan)涉膜(mo)(mo)厚(hou)測(ce)(ce)量(liang)技(ji)(ji)(ji)術可(ke)以(yi)通過(guo)對干(gan)涉圖像的(de)(de)分析實現對薄(bo)(bo)膜(mo)(mo)的(de)(de)表面和內部結構測(ce)(ce)量(liang)。

確定(ding)靶(ba)丸折(zhe)射(she)(she)(she)(she)率(lv)及(ji)厚(hou)(hou)度(du)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)算(suan)法(fa)(fa)，由于(yu)干(gan)(gan)涉光譜(pu)信號(hao)與(yu)膜(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)光參量(liang)直接相關(guan)，這里主(zhu)要(yao)(yao)(yao)考慮光譜(pu)分(fen)析(xi)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)方法(fa)(fa)根(gen)據(ju)(ju)(ju)測(ce)(ce)量(liang)膜(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)反(fan)射(she)(she)(she)(she)或透射(she)(she)(she)(she)光譜(pu)進行分(fen)析(xi)計(ji)算(suan)，可獲得(de)(de)膜(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)厚(hou)(hou)度(du)、折(zhe)射(she)(she)(she)(she)率(lv)等參數(shu)。根(gen)據(ju)(ju)(ju)光譜(pu)信號(hao)分(fen)析(xi)計(ji)算(suan)膜(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)折(zhe)射(she)(she)(she)(she)率(lv)及(ji)厚(hou)(hou)度(du)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)方法(fa)(fa)主(zhu)要(yao)(yao)(yao)有極(ji)(ji)值(zhi)法(fa)(fa)和(he)包絡(luo)法(fa)(fa)、全光譜(pu)擬(ni)合(he)法(fa)(fa)。極(ji)(ji)值(zhi)法(fa)(fa)測(ce)(ce)量(liang)膜(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)厚(hou)(hou)度(du)主(zhu)要(yao)(yao)(yao)是根(gen)據(ju)(ju)(ju)薄(bo)膜(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)反(fan)射(she)(she)(she)(she)或透射(she)(she)(she)(she)光譜(pu)曲線上(shang)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)波(bo)峰(feng)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)位置來(lai)計(ji)算(suan)，對于(yu)弱色(se)散(san)介質，折(zhe)射(she)(she)(she)(she)率(lv)為恒(heng)定(ding)值(zhi)，根(gen)據(ju)(ju)(ju)兩(liang)個或兩(liang)個以上(shang)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)極(ji)(ji)大(da)值(zhi)點的(de)(de)(de)(de)(de)(de)位置，求(qiu)(qiu)得(de)(de)膜(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)光學厚(hou)(hou)度(du)，若(ruo)已知膜(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)折(zhe)射(she)(she)(she)(she)率(lv)即(ji)可求(qiu)(qiu)解膜(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)厚(hou)(hou)度(du)；對于(yu)強色(se)散(san)介質，首先利用(yong)極(ji)(ji)值(zhi)點求(qiu)(qiu)出膜(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)厚(hou)(hou)度(du)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)初始值(zhi)。薄(bo)膜(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)厚(hou)(hou)度(du)是一(yi)恒(heng)定(ding)不(bu)變值(zhi)，可根(gen)據(ju)(ju)(ju)極(ji)(ji)大(da)值(zhi)點位置的(de)(de)(de)(de)(de)(de)光學厚(hou)(hou)度(du)關(guan)系(xi)式獲得(de)(de)入射(she)(she)(she)(she)波(bo)長(chang)(chang)和(he)折(zhe)射(she)(she)(she)(she)率(lv)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)對應關(guan)系(xi)，再依據(ju)(ju)(ju)薄(bo)膜(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)材質的(de)(de)(de)(de)(de)(de)色(se)散(san)特性(xing)，引(yin)入合(he)適的(de)(de)(de)(de)(de)(de)色(se)散(san)模(mo)(mo)型(xing)(xing)，常用(yong)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)色(se)散(san)模(mo)(mo)型(xing)(xing)有cauchy模(mo)(mo)型(xing)(xing)、Selimeier模(mo)(mo)型(xing)(xing)、Lorenz模(mo)(mo)型(xing)(xing)等，利用(yong)折(zhe)射(she)(she)(she)(she)率(lv)與(yu)入射(she)(she)(she)(she)波(bo)長(chang)(chang)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)關(guan)系(xi)式，通過二乘法(fa)(fa)擬(ni)合(he)得(de)(de)到(dao)色(se)散(san)模(mo)(mo)型(xing)(xing)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)系(xi)數(shu)，即(ji)可解得(de)(de)任意入射(she)(she)(she)(she)波(bo)長(chang)(chang)下的(de)(de)(de)(de)(de)(de)折(zhe)射(she)(she)(she)(she)率(lv)。白光干(gan)(gan)涉膜(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)厚(hou)(hou)測(ce)(ce)量(liang)技術(shu)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)應用(yong)涵(han)蓋了材料科學、光學制造、電(dian)子(zi)工(gong)業等多個領域。岳陽膜(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)厚(hou)(hou)儀零售價格

白光干涉膜(mo)厚測(ce)量技術可以通過對干涉圖(tu)像的分(fen)析實現對薄(bo)膜(mo)的形貌測(ce)量。孝(xiao)感膜(mo)厚儀定做

薄(bo)膜(mo)(mo)作(zuo)為(wei)一種特殊的(de)(de)(de)微結構，近年(nian)來(lai)在(zai)電(dian)子學(xue)、摩擦學(xue)、現代(dai)光學(xue)得(de)(de)到了廣泛的(de)(de)(de)應用，薄(bo)膜(mo)(mo)的(de)(de)(de)測(ce)(ce)試(shi)(shi)技(ji)術變得(de)(de)越(yue)(yue)來(lai)越(yue)(yue)重(zhong)要。尤其是(shi)在(zai)厚(hou)度這一特定(ding)方向(xiang)上(shang)，尺寸(cun)很(hen)小(xiao)，基本上(shang)都是(shi)微觀(guan)可測(ce)(ce)量。因此，在(zai)微納測(ce)(ce)量領域中，薄(bo)膜(mo)(mo)厚(hou)度的(de)(de)(de)測(ce)(ce)試(shi)(shi)是(shi)一個(ge)非常重(zhong)要而且很(hen)實用的(de)(de)(de)研究方向(xiang)。在(zai)工業生產中，薄(bo)膜(mo)(mo)的(de)(de)(de)厚(hou)度直(zhi)接關系到薄(bo)膜(mo)(mo)能否正常工作(zuo)。在(zai)半導體工業中，膜(mo)(mo)厚(hou)的(de)(de)(de)測(ce)(ce)量是(shi)硅單晶體表面熱氧化厚(hou)度以(yi)及平整(zheng)度質(zhi)量控制的(de)(de)(de)重(zhong)要手(shou)段。薄(bo)膜(mo)(mo)的(de)(de)(de)厚(hou)度影(ying)響(xiang)薄(bo)膜(mo)(mo)的(de)(de)(de)電(dian)磁性能、力學(xue)性能和光學(xue)性能等，所以(yi)準(zhun)確地測(ce)(ce)量薄(bo)膜(mo)(mo)的(de)(de)(de)厚(hou)度成(cheng)為(wei)一種關鍵技(ji)術。孝(xiao)感膜(mo)(mo)厚(hou)儀定(ding)做(zuo)

本文來自四川(chuan)精碳(tan)偉業環保科技有限責任公司：//wasul.cn/Article/78d20499717.html