基(ji)(ji)于(yu)白光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)干(gan)(gan)涉(she)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)譜單(dan)峰(feng)值(zhi)(zhi)波(bo)長移動(dong)的(de)(de)鍺膜(mo)(mo)(mo)厚(hou)(hou)度(du)測(ce)(ce)(ce)量(liang)方(fang)(fang)(fang)案(an)研究：在對比研究目(mu)前常(chang)用的(de)(de)白光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)干(gan)(gan)涉(she)測(ce)(ce)(ce)量(liang)方(fang)(fang)(fang)案(an)的(de)(de)基(ji)(ji)礎上，我(wo)們發現當兩干(gan)(gan)涉(she)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)束(shu)的(de)(de)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)程(cheng)差(cha)非常(chang)小(xiao)導致其干(gan)(gan)涉(she)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)譜只(zhi)有一(yi)個干(gan)(gan)涉(she)峰(feng)時，常(chang)用的(de)(de)基(ji)(ji)于(yu)兩相鄰干(gan)(gan)涉(she)峰(feng)間距(ju)的(de)(de)解調(diao)方(fang)(fang)(fang)案(an)不再適用。為(wei)此，我(wo)們提出了適用于(yu)極小(xiao)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)程(cheng)差(cha)的(de)(de)基(ji)(ji)于(yu)干(gan)(gan)涉(she)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)譜單(dan)峰(feng)值(zhi)(zhi)波(bo)長移動(dong)的(de)(de)測(ce)(ce)(ce)量(liang)方(fang)(fang)(fang)案(an)。干(gan)(gan)涉(she)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)譜的(de)(de)峰(feng)值(zhi)(zhi)波(bo)長會(hui)隨著光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)程(cheng)差(cha)的(de)(de)增(zeng)大(da)出現周期性的(de)(de)紅移和(he)(he)藍移，當光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)程(cheng)差(cha)在較小(xiao)范圍內變化時，峰(feng)值(zhi)(zhi)波(bo)長的(de)(de)移動(dong)與光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)程(cheng)差(cha)成正比。根據這一(yi)原理，搭建了光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)纖白光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)干(gan)(gan)涉(she)溫度(du)傳感系(xi)統對這一(yi)測(ce)(ce)(ce)量(liang)解調(diao)方(fang)(fang)(fang)案(an)進行驗證，得(de)到了光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)纖端(duan)面(mian)半導體鍺薄膜(mo)(mo)(mo)的(de)(de)厚(hou)(hou)度(du)。實驗結果(guo)顯示(shi)鍺膜(mo)(mo)(mo)的(de)(de)厚(hou)(hou)度(du)為(wei)，與臺(tai)階儀測(ce)(ce)(ce)量(liang)結果(guo)存在，這是因(yin)為(wei)薄膜(mo)(mo)(mo)表面(mian)本身并不光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)滑，臺(tai)階儀的(de)(de)測(ce)(ce)(ce)量(liang)結果(guo)只(zhi)能作為(wei)參考值(zhi)(zhi)。鍺膜(mo)(mo)(mo)厚(hou)(hou)度(du)測(ce)(ce)(ce)量(liang)誤差(cha)主要來(lai)自光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)源的(de)(de)波(bo)長漂移和(he)(he)溫度(du)控制誤差(cha)。白光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)干(gan)(gan)涉(she)膜(mo)(mo)(mo)厚(hou)(hou)測(ce)(ce)(ce)量(liang)技術(shu)可以(yi)實現對薄膜(mo)(mo)(mo)的(de)(de)在線檢測(ce)(ce)(ce)和(he)(he)控制。高精度(du)膜(mo)(mo)(mo)厚(hou)(hou)儀銷(xiao)售價(jia)格

開展白(bai)(bai)光(guang)(guang)干(gan)涉理(li)(li)論分析，在此基(ji)(ji)(ji)礎詳(xiang)細介紹了白(bai)(bai)光(guang)(guang)垂(chui)直(zhi)掃(sao)描干(gan)涉技術(shu)和(he)白(bai)(bai)光(guang)(guang)反射(she)(she)光(guang)(guang)譜(pu)技術(shu)的基(ji)(ji)(ji)本原理(li)(li)，完成(cheng)了應用(yong)于靶(ba)(ba)丸(wan)(wan)殼(ke)(ke)層(ceng)折射(she)(she)率和(he)厚(hou)(hou)度(du)(du)分布測(ce)(ce)量(liang)(liang)實(shi)(shi)驗(yan)裝置的設(she)計及搭(da)建。該實(shi)(shi)驗(yan)裝置主要由(you)白(bai)(bai)光(guang)(guang)反射(she)(she)光(guang)(guang)譜(pu)探測(ce)(ce)模塊、靶(ba)(ba)丸(wan)(wan)吸附(fu)轉(zhuan)(zhuan)位模塊、三維運動模塊、氣浮隔震平臺等幾部分組成(cheng)，可實(shi)(shi)現靶(ba)(ba)丸(wan)(wan)的負壓吸附(fu)、靶(ba)(ba)丸(wan)(wan)位置的精(jing)密調整(zheng)以及靶(ba)(ba)丸(wan)(wan)360°范圍的旋轉(zhuan)(zhuan)及特定(ding)角(jiao)度(du)(du)下靶(ba)(ba)丸(wan)(wan)殼(ke)(ke)層(ceng)白(bai)(bai)光(guang)(guang)反射(she)(she)光(guang)(guang)譜(pu)的測(ce)(ce)量(liang)(liang)。基(ji)(ji)(ji)于白(bai)(bai)光(guang)(guang)垂(chui)直(zhi)掃(sao)描干(gan)涉和(he)白(bai)(bai)光(guang)(guang)反射(she)(she)光(guang)(guang)譜(pu)的基(ji)(ji)(ji)本原理(li)(li),建立了二者(zhe)聯用(yong)的靶(ba)(ba)丸(wan)(wan)殼(ke)(ke)層(ceng)折射(she)(she)率測(ce)(ce)量(liang)(liang)方法，該方法利(li)用(yong)白(bai)(bai)光(guang)(guang)反射(she)(she)光(guang)(guang)譜(pu)測(ce)(ce)量(liang)(liang)靶(ba)(ba)丸(wan)(wan)殼(ke)(ke)層(ceng)光(guang)(guang)學厚(hou)(hou)度(du)(du)，利(li)用(yong)白(bai)(bai)光(guang)(guang)垂(chui)直(zhi)掃(sao)描干(gan)涉技術(shu)測(ce)(ce)量(liang)(liang)光(guang)(guang)線(xian)通過靶(ba)(ba)丸(wan)(wan)殼(ke)(ke)層(ceng)后的光(guang)(guang)程(cheng)增(zeng)量(liang)(liang)，二者(zhe)聯立即可求(qiu)得靶(ba)(ba)丸(wan)(wan)折射(she)(she)率和(he)厚(hou)(hou)度(du)(du)數據。湖南防(fang)水膜厚(hou)(hou)儀(yi)白(bai)(bai)光(guang)(guang)干(gan)涉膜厚(hou)(hou)測(ce)(ce)量(liang)(liang)技術(shu)可以實(shi)(shi)現對(dui)薄膜的快速測(ce)(ce)量(liang)(liang)和(he)分析。

確定(ding)靶丸折(zhe)(zhe)(zhe)射(she)(she)(she)率(lv)(lv)(lv)及(ji)厚度(du)的(de)算(suan)(suan)法(fa)(fa)(fa)，由于(yu)干(gan)涉光(guang)譜(pu)(pu)(pu)信號(hao)與(yu)膜(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)的(de)光(guang)參量(liang)(liang)直(zhi)接相關(guan)，這里(li)主(zhu)要考慮(lv)光(guang)譜(pu)(pu)(pu)分析的(de)方法(fa)(fa)(fa)根據測量(liang)(liang)膜(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)的(de)反射(she)(she)(she)或(huo)透(tou)(tou)射(she)(she)(she)光(guang)譜(pu)(pu)(pu)進行分析計算(suan)(suan)，可獲得膜(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)的(de)厚度(du)、折(zhe)(zhe)(zhe)射(she)(she)(she)率(lv)(lv)(lv)等參數。根據光(guang)譜(pu)(pu)(pu)信號(hao)分析計算(suan)(suan)膜(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)折(zhe)(zhe)(zhe)射(she)(she)(she)率(lv)(lv)(lv)及(ji)厚度(du)的(de)方法(fa)(fa)(fa)主(zhu)要有(you)極(ji)(ji)值法(fa)(fa)(fa)和包絡法(fa)(fa)(fa)、全光(guang)譜(pu)(pu)(pu)擬(ni)合法(fa)(fa)(fa)。極(ji)(ji)值法(fa)(fa)(fa)測量(liang)(liang)膜(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)厚度(du)主(zhu)要是(shi)根據薄膜(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)反射(she)(she)(she)或(huo)透(tou)(tou)射(she)(she)(she)光(guang)譜(pu)(pu)(pu)曲線上的(de)波(bo)峰的(de)位(wei)置(zhi)來(lai)計算(suan)(suan)，對(dui)于(yu)弱色(se)散(san)(san)介質，折(zhe)(zhe)(zhe)射(she)(she)(she)率(lv)(lv)(lv)為恒定(ding)值，根據兩個或(huo)兩個以上的(de)極(ji)(ji)大值點的(de)位(wei)置(zhi)，求得膜(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)的(de)光(guang)學厚度(du)，若已知膜(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)折(zhe)(zhe)(zhe)射(she)(she)(she)率(lv)(lv)(lv)即可求解膜(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)的(de)厚度(du)；對(dui)于(yu)強色(se)散(san)(san)介質，首(shou)先利用(yong)極(ji)(ji)值點求出膜(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)厚度(du)的(de)初(chu)始值。薄膜(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)厚度(du)是(shi)一恒定(ding)不變值，可根據極(ji)(ji)大值點位(wei)置(zhi)的(de)光(guang)學厚度(du)關(guan)系(xi)式獲得入射(she)(she)(she)波(bo)長(chang)和折(zhe)(zhe)(zhe)射(she)(she)(she)率(lv)(lv)(lv)的(de)對(dui)應關(guan)系(xi)，再依據薄膜(mo)(mo)(mo)(mo)(mo)材質的(de)色(se)散(san)(san)特性(xing)，引入合適的(de)色(se)散(san)(san)模(mo)型(xing)，常用(yong)的(de)色(se)散(san)(san)模(mo)型(xing)有(you)cauchy模(mo)型(xing)、Selimeier模(mo)型(xing)、Lorenz模(mo)型(xing)等，利用(yong)折(zhe)(zhe)(zhe)射(she)(she)(she)率(lv)(lv)(lv)與(yu)入射(she)(she)(she)波(bo)長(chang)的(de)關(guan)系(xi)式，通過二乘法(fa)(fa)(fa)擬(ni)合得到色(se)散(san)(san)模(mo)型(xing)的(de)系(xi)數，即可解得任意(yi)入射(she)(she)(she)波(bo)長(chang)下的(de)折(zhe)(zhe)(zhe)射(she)(she)(she)率(lv)(lv)(lv)。

目前(qian)，應用(yong)的顯(xian)(xian)(xian)微干涉(she)方(fang)式主(zhu)要(yao)有(you)Mirau顯(xian)(xian)(xian)微干涉(she)和(he)Michelson顯(xian)(xian)(xian)微干涉(she)兩(liang)張(zhang)方(fang)式。如圖2-5(a)所(suo)示(shi)Mirau型(xing)顯(xian)(xian)(xian)微干涉(she)結(jie)構，在(zai)該結(jie)構中物(wu)鏡(jing)(jing)和(he)被測(ce)樣品之間有(you)兩(liang)塊平(ping)板，一個是涂覆(fu)有(you)高反(fan)射膜(mo)(mo)的平(ping)板作(zuo)為(wei)參考鏡(jing)(jing)，另一塊涂覆(fu)半(ban)(ban)透半(ban)(ban)反(fan)射膜(mo)(mo)的平(ping)板作(zuo)為(wei)分光(guang)棱鏡(jing)(jing)，由于(yu)參考鏡(jing)(jing)位(wei)于(yu)物(wu)鏡(jing)(jing)和(he)被測(ce)樣品之間，從(cong)而(er)使物(wu)鏡(jing)(jing)外(wai)殼更加緊湊，工作(zuo)距離相對而(er)言短一些(xie)，其(qi)倍(bei)率(lv)一般(ban)為(wei)10-50倍(bei)，Mirau顯(xian)(xian)(xian)微干涉(she)物(wu)鏡(jing)(jing)參考端(duan)使用(yong)與(yu)測(ce)量端(duan)相同顯(xian)(xian)(xian)微物(wu)鏡(jing)(jing)，因此沒(mei)有(you)額外(wai)的光(guang)程差。白光(guang)干涉(she)膜(mo)(mo)厚(hou)測(ce)量技術可(ke)以應用(yong)于(yu)半(ban)(ban)導體制造中的薄膜(mo)(mo)厚(hou)度控制。

干(gan)(gan)(gan)涉(she)法(fa)作(zuo)為面掃描方式可以(yi)一次性對薄膜局域內的厚度進行解算(suan)，適用(yong)于對面型整體形貌特(te)征(zheng)要求(qiu)較高的測(ce)量(liang)(liang)對象。干(gan)(gan)(gan)涉(she)法(fa)算(suan)法(fa)在于相位信息的提取(qu)，借助多(duo)種復合(he)算(suan)法(fa)通(tong)常可以(yi)達(da)到納(na)米級的測(ce)量(liang)(liang)準確度。然而主動干(gan)(gan)(gan)涉(she)法(fa)對條紋穩定性不佳，光學元件表面的不清潔、光照度不均勻、光源不穩定、外(wai)界氣流震動干(gan)(gan)(gan)擾等因素(su)均可能影(ying)響干(gan)(gan)(gan)涉(she)圖(tu)的完(wan)整性[39]，使(shi)干(gan)(gan)(gan)涉(she)圖(tu)樣(yang)中包含噪聲和部分區(qu)域的陰影(ying)，給(gei)后(hou)期處(chu)理(li)帶來困難。除(chu)此之外(wai)，干(gan)(gan)(gan)涉(she)法(fa)系統(tong)精度的來源——精密移動及定位部件也增加(jia)了(le)系統(tong)的成本(ben)，高精度的干(gan)(gan)(gan)涉(she)儀往往較為昂(ang)貴。白(bai)光干(gan)(gan)(gan)涉(she)膜厚測(ce)量(liang)(liang)技(ji)術可以(yi)對薄膜的厚度、反射率、折射率等光學參(can)數進行測(ce)量(liang)(liang)。有(you)哪些膜厚儀大概價(jia)格多(duo)少

白光干涉膜厚測(ce)(ce)量技(ji)術(shu)可以通過(guo)對干涉曲線的分(fen)析(xi)實現(xian)對薄(bo)膜的厚度測(ce)(ce)量。高精(jing)度膜厚儀銷售(shou)價格

干(gan)涉(she)(she)(she)法(fa)與分光(guang)光(guang)度(du)法(fa)都是(shi)利用相(xiang)干(gan)光(guang)形成等(deng)厚(hou)干(gan)涉(she)(she)(she)條紋的原理來確定(ding)薄(bo)膜(mo)厚(hou)度(du)和折射(she)率(lv)，然(ran)而與薄(bo)膜(mo)自發產生的等(deng)傾干(gan)涉(she)(she)(she)不同，干(gan)涉(she)(she)(she)法(fa)是(shi)通過設置參考(kao)光(guang)路，形成與測(ce)(ce)量(liang)光(guang)路間的干(gan)涉(she)(she)(she)條紋，因此其(qi)相(xiang)位信(xin)息包含兩個部(bu)分，分別是(shi)由(you)(you)參考(kao)平(ping)面(mian)和測(ce)(ce)量(liang)平(ping)面(mian)間掃(sao)描高度(du)引起的附加相(xiang)位和由(you)(you)透明薄(bo)膜(mo)內(nei)部(bu)多次反(fan)射(she)引起的膜(mo)厚(hou)相(xiang)位。干(gan)涉(she)(she)(she)法(fa)測(ce)(ce)量(liang)光(guang)路使用面(mian)陣CCD接收參考(kao)平(ping)面(mian)和測(ce)(ce)量(liang)平(ping)面(mian)間相(xiang)干(gan)波面(mian)的干(gan)涉(she)(she)(she)光(guang)強分布，不同于以上(shang)三種點測(ce)(ce)量(liang)方(fang)式，可(ke)一(yi)次性生成薄(bo)膜(mo)待測(ce)(ce)區域的表面(mian)形貌信(xin)息，但同時(shi)(shi)由(you)(you)于存在大(da)量(liang)軸向(xiang)掃(sao)描和數據(ju)解算，完成單次測(ce)(ce)量(liang)的時(shi)(shi)間相(xiang)對較長。高精(jing)度(du)膜(mo)厚(hou)儀(yi)銷(xiao)售價(jia)格

本文來(lai)自四川精碳偉業環保科技有限責任公司：//wasul.cn/Article/90b099909.html