在(zai)激光慣(guan)(guan)性約(yue)束核聚變(bian)(bian)實(shi)驗(yan)(yan)中，靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)丸(wan)(wan)的(de)(de)(de)物性參數(shu)(shu)和(he)幾何參數(shu)(shu)是(shi)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)丸(wan)(wan)制備(bei)工(gong)藝(yi)改進和(he)仿(fang)真(zhen)模擬核聚變(bian)(bian)實(shi)驗(yan)(yan)過(guo)程的(de)(de)(de)基(ji)礎，因此如何對(dui)(dui)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)丸(wan)(wan)多個(ge)參數(shu)(shu)進行同(tong)步(bu)、高(gao)精度(du)、無(wu)損的(de)(de)(de)綜(zong)合檢測(ce)(ce)(ce)(ce)是(shi)激光慣(guan)(guan)性約(yue)束核聚變(bian)(bian)實(shi)驗(yan)(yan)中的(de)(de)(de)關鍵問題(ti)。以上各種(zhong)薄膜(mo)厚度(du)及折射(she)率(lv)的(de)(de)(de)測(ce)(ce)(ce)(ce)量(liang)方法各有利弊，但針對(dui)(dui)本文實(shi)驗(yan)(yan)，仍(reng)然無(wu)法滿足激光核聚變(bian)(bian)技術對(dui)(dui)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)丸(wan)(wan)參數(shu)(shu)測(ce)(ce)(ce)(ce)量(liang)的(de)(de)(de)高(gao)要求，靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)丸(wan)(wan)參數(shu)(shu)測(ce)(ce)(ce)(ce)量(liang)存在(zai)以下問題(ti)：不(bu)能(neng)對(dui)(dui)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)丸(wan)(wan)進行破壞性切割(ge)測(ce)(ce)(ce)(ce)量(liang)，否則，被破壞后(hou)的(de)(de)(de)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)丸(wan)(wan)無(wu)法用于(yu)(yu)于(yu)(yu)下一步(bu)工(gong)藝(yi)處理或者打靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)實(shi)驗(yan)(yan)；需要同(tong)時測(ce)(ce)(ce)(ce)得靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)丸(wan)(wan)的(de)(de)(de)多個(ge)參數(shu)(shu)，不(bu)同(tong)參數(shu)(shu)的(de)(de)(de)單獨測(ce)(ce)(ce)(ce)量(liang)，無(wu)法提(ti)供(gong)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)丸(wan)(wan)制備(bei)和(he)核聚變(bian)(bian)反應過(guo)程中發生(sheng)的(de)(de)(de)結(jie)(jie)構(gou)變(bian)(bian)化(hua)現象和(he)規(gui)律，并(bing)且效率(lv)低下、沒有統(tong)一的(de)(de)(de)測(ce)(ce)(ce)(ce)量(liang)標準。靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)丸(wan)(wan)屬于(yu)(yu)自支(zhi)撐球形薄膜(mo)結(jie)(jie)構(gou)，曲面應力大、難展平的(de)(de)(de)特點導致靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)丸(wan)(wan)與(yu)基(ji)底不(bu)能(neng)完全(quan)貼合，在(zai)微區內可看作類(lei)薄膜(mo)結(jie)(jie)構(gou)白光干涉膜(mo)厚測(ce)(ce)(ce)(ce)量(liang)技術可以對(dui)(dui)薄膜(mo)的(de)(de)(de)表面和(he)內部進行聯合測(ce)(ce)(ce)(ce)量(liang)和(he)分析。工(gong)廠(chang)膜(mo)厚儀推薦

論文主要以半導體(ti)(ti)(ti)鍺和貴金(jin)屬(shu)金(jin)兩種材料(liao)為對象，研(yan)究了白(bai)光(guang)干(gan)(gan)涉(she)(she)(she)法(fa)(fa)、表面等離子體(ti)(ti)(ti)共振法(fa)(fa)和外差干(gan)(gan)涉(she)(she)(she)法(fa)(fa)實(shi)現納米級薄膜(mo)厚(hou)度(du)(du)(du)準確(que)測(ce)(ce)量(liang)的(de)(de)(de)(de)可行性。由于不(bu)同(tong)材料(liao)薄膜(mo)的(de)(de)(de)(de)特(te)性不(bu)同(tong)，所(suo)適用(yong)(yong)的(de)(de)(de)(de)測(ce)(ce)量(liang)方(fang)法(fa)(fa)也不(bu)同(tong)。半導體(ti)(ti)(ti)鍺膜(mo)具有(you)折射(she)率高，在通信波段（1550nm附近）不(bu)透明的(de)(de)(de)(de)特(te)點(dian)，選擇采用(yong)(yong)白(bai)光(guang)干(gan)(gan)涉(she)(she)(she)的(de)(de)(de)(de)測(ce)(ce)量(liang)方(fang)法(fa)(fa)；而厚(hou)度(du)(du)(du)更薄的(de)(de)(de)(de)金(jin)膜(mo)的(de)(de)(de)(de)折射(she)率為復數，且能激(ji)發的(de)(de)(de)(de)表面等離子體(ti)(ti)(ti)效應(ying)，因而可借助(zhu)基于表面等離子體(ti)(ti)(ti)共振的(de)(de)(de)(de)測(ce)(ce)量(liang)方(fang)法(fa)(fa)；為了進一步改善測(ce)(ce)量(liang)的(de)(de)(de)(de)精(jing)度(du)(du)(du)，論文還(huan)研(yan)究了外差干(gan)(gan)涉(she)(she)(she)測(ce)(ce)量(liang)法(fa)(fa)，通過引入高精(jing)度(du)(du)(du)的(de)(de)(de)(de)相位解(jie)調手段，檢(jian)測(ce)(ce)P光(guang)與S光(guang)之間的(de)(de)(de)(de)相位差提升厚(hou)度(du)(du)(du)測(ce)(ce)量(liang)的(de)(de)(de)(de)精(jing)度(du)(du)(du)。推(tui)薦膜(mo)厚(hou)儀源頭直供廠(chang)家白(bai)光(guang)干(gan)(gan)涉(she)(she)(she)膜(mo)厚(hou)測(ce)(ce)量(liang)技術可以應(ying)用(yong)(yong)于材料(liao)科學中的(de)(de)(de)(de)薄膜(mo)微結構(gou)分析。

針對(dui)微米(mi)級工業(ye)薄膜(mo)厚(hou)度測(ce)(ce)(ce)(ce)(ce)量(liang)(liang)，研究了基(ji)(ji)(ji)于(yu)寬(kuan)光(guang)譜干涉的(de)(de)反(fan)射式法測(ce)(ce)(ce)(ce)(ce)量(liang)(liang)方(fang)法。根據(ju)薄膜(mo)干涉及光(guang)譜共聚(ju)焦(jiao)(jiao)原(yuan)理，綜合(he)考慮成本、穩(wen)定性、體積(ji)等因(yin)素要(yao)求(qiu)，研制了滿足工業(ye)應用的(de)(de)小型薄膜(mo)厚(hou)度測(ce)(ce)(ce)(ce)(ce)量(liang)(liang)系(xi)(xi)(xi)統。根據(ju)波長分(fen)辨下的(de)(de)薄膜(mo)反(fan)射干涉光(guang)譜模(mo)型，結合(he)經典模(mo)態分(fen)解(jie)(jie)和非均勻傅里葉(xie)變(bian)(bian)換思想，提出了一種(zhong)基(ji)(ji)(ji)于(yu)相位功率(lv)譜分(fen)析的(de)(de)膜(mo)厚(hou)解(jie)(jie)算(suan)算(suan)法，能有(you)效(xiao)利用全光(guang)譜數據(ju)準(zhun)確提取(qu)相位變(bian)(bian)化，對(dui)由(you)環境噪聲帶來的(de)(de)假頻(pin)干擾(rao)，具有(you)很(hen)好的(de)(de)抗(kang)干擾(rao)性。通過(guo)對(dui)PVC標準(zhun)厚(hou)度片，PCB板芯片膜(mo)層(ceng)及鍺基(ji)(ji)(ji)SiO2膜(mo)層(ceng)的(de)(de)測(ce)(ce)(ce)(ce)(ce)量(liang)(liang)實驗(yan)對(dui)系(xi)(xi)(xi)統性能進(jin)行(xing)了驗(yan)證(zheng)，結果表明測(ce)(ce)(ce)(ce)(ce)厚(hou)系(xi)(xi)(xi)統具有(you)1~75μm厚(hou)度的(de)(de)測(ce)(ce)(ce)(ce)(ce)量(liang)(liang)量(liang)(liang)程，μm.的(de)(de)測(ce)(ce)(ce)(ce)(ce)量(liang)(liang)不確定度。由(you)于(yu)無需對(dui)焦(jiao)(jiao)，可在(zai)10ms內(nei)完成單次測(ce)(ce)(ce)(ce)(ce)量(liang)(liang)，滿足工業(ye)級測(ce)(ce)(ce)(ce)(ce)量(liang)(liang)高效(xiao)便捷的(de)(de)應用要(yao)求(qiu)。

光(guang)(guang)具有(you)傳播的(de)(de)(de)(de)(de)特(te)性，不(bu)同波(bo)列在(zai)(zai)相(xiang)(xiang)遇(yu)的(de)(de)(de)(de)(de)區域，振(zhen)(zhen)動(dong)將(jiang)相(xiang)(xiang)互疊加(jia)，是各列光(guang)(guang)波(bo)獨自在(zai)(zai)該(gai)(gai)點所引起的(de)(de)(de)(de)(de)振(zhen)(zhen)動(dong)矢量(liang)和。兩束光(guang)(guang)要(yao)發生干(gan)(gan)(gan)(gan)涉(she)，應必須滿(man)足三(san)個(ge)相(xiang)(xiang)干(gan)(gan)(gan)(gan)條件，即：頻率一(yi)(yi)致(zhi)(zhi)、振(zhen)(zhen)動(dong)方向一(yi)(yi)致(zhi)(zhi)、相(xiang)(xiang)位(wei)(wei)差穩(wen)定(ding)一(yi)(yi)致(zhi)(zhi)。發生干(gan)(gan)(gan)(gan)涉(she)的(de)(de)(de)(de)(de)兩束光(guang)(guang)在(zai)(zai)一(yi)(yi)些(xie)地方振(zhen)(zhen)動(dong)加(jia)強，而在(zai)(zai)另一(yi)(yi)些(xie)地方振(zhen)(zhen)動(dong)減弱(ruo)，產(chan)生規則的(de)(de)(de)(de)(de)明暗(an)交(jiao)替(ti)變化。任何(he)干(gan)(gan)(gan)(gan)涉(she)測量(liang)都是完全(quan)建立在(zai)(zai)這種(zhong)光(guang)(guang)波(bo)典(dian)型特(te)性上(shang)的(de)(de)(de)(de)(de)。下(xia)圖(tu)分別表示干(gan)(gan)(gan)(gan)涉(she)相(xiang)(xiang)長和干(gan)(gan)(gan)(gan)涉(she)相(xiang)(xiang)消的(de)(de)(de)(de)(de)合振(zhen)(zhen)幅(fu)。與(yu)激(ji)光(guang)(guang)光(guang)(guang)源相(xiang)(xiang)比，白(bai)(bai)光(guang)(guang)光(guang)(guang)源的(de)(de)(de)(de)(de)相(xiang)(xiang)干(gan)(gan)(gan)(gan)長度(du)(du)在(zai)(zai)幾微米到幾十微米內(nei)，通(tong)常都很(hen)短(duan)，更(geng)為重要(yao)的(de)(de)(de)(de)(de)是，白(bai)(bai)光(guang)(guang)光(guang)(guang)源產(chan)生的(de)(de)(de)(de)(de)干(gan)(gan)(gan)(gan)涉(she)條紋具有(you)一(yi)(yi)個(ge)典(dian)型的(de)(de)(de)(de)(de)特(te)征：即條紋有(you)一(yi)(yi)個(ge)固定(ding)不(bu)變的(de)(de)(de)(de)(de)位(wei)(wei)置(zhi)(zhi)，該(gai)(gai)固定(ding)位(wei)(wei)置(zhi)(zhi)對(dui)應于(yu)光(guang)(guang)程差為零的(de)(de)(de)(de)(de)平衡位(wei)(wei)置(zhi)(zhi)，并(bing)在(zai)(zai)該(gai)(gai)位(wei)(wei)置(zhi)(zhi)白(bai)(bai)光(guang)(guang)輸出(chu)光(guang)(guang)強度(du)(du)具有(you)最大(da)(da)值，并(bing)通(tong)過探測該(gai)(gai)光(guang)(guang)強最大(da)(da)值，可(ke)實現(xian)樣品表面(mian)位(wei)(wei)移的(de)(de)(de)(de)(de)精密測量(liang)。此外，白(bai)(bai)光(guang)(guang)光(guang)(guang)源具有(you)系統抗干(gan)(gan)(gan)(gan)擾(rao)能力強、穩(wen)定(ding)性好(hao)且動(dong)態(tai)范圍大(da)(da)、結構簡單，成本低(di)廉等(deng)優點。因(yin)此，白(bai)(bai)光(guang)(guang)垂直掃描干(gan)(gan)(gan)(gan)涉(she)、白(bai)(bai)光(guang)(guang)反射光(guang)(guang)譜等(deng)基(ji)于(yu)白(bai)(bai)光(guang)(guang)干(gan)(gan)(gan)(gan)涉(she)的(de)(de)(de)(de)(de)光(guang)(guang)學測量(liang)技術(shu)在(zai)(zai)薄(bo)膜(mo)三(san)維形(xing)貌測量(liang)、薄(bo)膜(mo)厚(hou)度(du)(du)精密測量(liang)等(deng)領域得以廣泛應用(yong)。白(bai)(bai)光(guang)(guang)干(gan)(gan)(gan)(gan)涉(she)膜(mo)厚(hou)測量(liang)技術(shu)可(ke)以實現(xian)對(dui)薄(bo)膜(mo)表面(mian)形(xing)貌的(de)(de)(de)(de)(de)測量(liang)。

在初(chu)始相(xiang)位(wei)(wei)為(wei)零(ling)的(de)(de)(de)情況下，當被測(ce)光(guang)(guang)(guang)(guang)與參考光(guang)(guang)(guang)(guang)之間(jian)的(de)(de)(de)光(guang)(guang)(guang)(guang)程差為(wei)零(ling)時，光(guang)(guang)(guang)(guang)強(qiang)(qiang)度(du)(du)將達到最(zui)大(da)(da)值。為(wei)探測(ce)兩(liang)個光(guang)(guang)(guang)(guang)束之間(jian)的(de)(de)(de)零(ling)光(guang)(guang)(guang)(guang)程差位(wei)(wei)置(zhi)(zhi)，需要精密(mi)Z向(xiang)運動臺(tai)帶動干涉(she)(she)鏡(jing)頭作垂直(zhi)掃描(miao)運動或(huo)移動載(zai)物臺(tai)，垂直(zhi)掃描(miao)過(guo)程中，用探測(ce)器記錄下干涉(she)(she)光(guang)(guang)(guang)(guang)強(qiang)(qiang)，可得白光(guang)(guang)(guang)(guang)干涉(she)(she)信號(hao)強(qiang)(qiang)度(du)(du)與Z向(xiang)掃描(miao)位(wei)(wei)置(zhi)(zhi)（兩(liang)光(guang)(guang)(guang)(guang)束光(guang)(guang)(guang)(guang)程差）之間(jian)的(de)(de)(de)變化曲(qu)線。干涉(she)(she)圖像序列中某波長處的(de)(de)(de)白光(guang)(guang)(guang)(guang)信號(hao)強(qiang)(qiang)度(du)(du)隨光(guang)(guang)(guang)(guang)程差變化示意圖，曲(qu)線中光(guang)(guang)(guang)(guang)強(qiang)(qiang)極大(da)(da)值位(wei)(wei)置(zhi)(zhi)即為(wei)零(ling)光(guang)(guang)(guang)(guang)程差位(wei)(wei)置(zhi)(zhi)，通過(guo)零(ling)過(guo)程差位(wei)(wei)置(zhi)(zhi)的(de)(de)(de)精密(mi)定位(wei)(wei)，即可實(shi)現樣品表(biao)(biao)面相(xiang)對(dui)(dui)位(wei)(wei)移的(de)(de)(de)精密(mi)測(ce)量(liang)；通過(guo)確定最(zui)大(da)(da)值對(dui)(dui)應的(de)(de)(de)Z向(xiang)位(wei)(wei)置(zhi)(zhi)可獲得被測(ce)樣品表(biao)(biao)面的(de)(de)(de)三(san)維高度(du)(du)。白光(guang)(guang)(guang)(guang)干涉(she)(she)膜(mo)(mo)厚測(ce)量(liang)技(ji)術(shu)可以實(shi)現對(dui)(dui)薄膜(mo)(mo)的(de)(de)(de)非接觸式(shi)測(ce)量(liang)。防水膜(mo)(mo)厚儀制造廠家

白(bai)光干涉(she)膜厚測量技術(shu)可以實現(xian)對復雜薄(bo)膜結(jie)構的測量。工廠(chang)膜厚儀推(tui)薦

為了(le)分析白(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)反(fan)(fan)射(she)(she)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)譜(pu)(pu)(pu)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)測(ce)量(liang)(liang)范圍(wei)，開展了(le)不同壁厚(hou)(hou)(hou)(hou)(hou)(hou)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)靶(ba)(ba)丸(wan)(wan)殼(ke)層(ceng)(ceng)白(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)反(fan)(fan)射(she)(she)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)譜(pu)(pu)(pu)測(ce)量(liang)(liang)實(shi)驗。圖是不同殼(ke)層(ceng)(ceng)厚(hou)(hou)(hou)(hou)(hou)(hou)度(du)(du)(du)(du)(du)靶(ba)(ba)丸(wan)(wan)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)白(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)反(fan)(fan)射(she)(she)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)譜(pu)(pu)(pu)測(ce)量(liang)(liang)曲(qu)線，如圖所示，對于(yu)(yu)殼(ke)層(ceng)(ceng)厚(hou)(hou)(hou)(hou)(hou)(hou)度(du)(du)(du)(du)(du)30μm的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)靶(ba)(ba)丸(wan)(wan)，其白(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)反(fan)(fan)射(she)(she)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)譜(pu)(pu)(pu)各譜(pu)(pu)(pu)峰(feng)(feng)(feng)非常密集、干(gan)(gan)(gan)涉(she)級次數值大；此外(wai)，由于(yu)(yu)靶(ba)(ba)丸(wan)(wan)殼(ke)層(ceng)(ceng)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)吸收，壁厚(hou)(hou)(hou)(hou)(hou)(hou)較(jiao)(jiao)大的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)靶(ba)(ba)丸(wan)(wan)信號(hao)(hao)(hao)強(qiang)度(du)(du)(du)(du)(du)相對較(jiao)(jiao)弱。隨著靶(ba)(ba)丸(wan)(wan)殼(ke)層(ceng)(ceng)厚(hou)(hou)(hou)(hou)(hou)(hou)度(du)(du)(du)(du)(du)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)進一步(bu)(bu)增加(jia)，其白(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)反(fan)(fan)射(she)(she)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)譜(pu)(pu)(pu)各譜(pu)(pu)(pu)峰(feng)(feng)(feng)將(jiang)更加(jia)密集，難以實(shi)現對各干(gan)(gan)(gan)涉(she)譜(pu)(pu)(pu)峰(feng)(feng)(feng)波(bo)長的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)測(ce)量(liang)(liang)。為實(shi)現較(jiao)(jiao)大厚(hou)(hou)(hou)(hou)(hou)(hou)度(du)(du)(du)(du)(du)靶(ba)(ba)丸(wan)(wan)殼(ke)層(ceng)(ceng)厚(hou)(hou)(hou)(hou)(hou)(hou)度(du)(du)(du)(du)(du)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)白(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)反(fan)(fan)射(she)(she)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)譜(pu)(pu)(pu)測(ce)量(liang)(liang)，需采用紅(hong)外(wai)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)寬譜(pu)(pu)(pu)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)源(yuan)和(he)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)譜(pu)(pu)(pu)探測(ce)器(qi)。對于(yu)(yu)殼(ke)層(ceng)(ceng)厚(hou)(hou)(hou)(hou)(hou)(hou)度(du)(du)(du)(du)(du)為μm的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)靶(ba)(ba)丸(wan)(wan)，測(ce)量(liang)(liang)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)波(bo)峰(feng)(feng)(feng)相對較(jiao)(jiao)少，容易實(shi)現靶(ba)(ba)丸(wan)(wan)殼(ke)層(ceng)(ceng)白(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)反(fan)(fan)射(she)(she)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)譜(pu)(pu)(pu)譜(pu)(pu)(pu)峰(feng)(feng)(feng)波(bo)長的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)準(zhun)確測(ce)量(liang)(liang)；隨著靶(ba)(ba)丸(wan)(wan)殼(ke)層(ceng)(ceng)厚(hou)(hou)(hou)(hou)(hou)(hou)度(du)(du)(du)(du)(du)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)進一步(bu)(bu)減小，兩干(gan)(gan)(gan)涉(she)信號(hao)(hao)(hao)之間的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)程差差異非常小，以至(zhi)于(yu)(yu)他們的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)譜(pu)(pu)(pu)信號(hao)(hao)(hao)中只有一個干(gan)(gan)(gan)涉(she)波(bo)峰(feng)(feng)(feng)，基于(yu)(yu)峰(feng)(feng)(feng)值探測(ce)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)白(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)反(fan)(fan)射(she)(she)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)譜(pu)(pu)(pu)方法難以實(shi)現其厚(hou)(hou)(hou)(hou)(hou)(hou)度(du)(du)(du)(du)(du)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)測(ce)量(liang)(liang)；為實(shi)現較(jiao)(jiao)小厚(hou)(hou)(hou)(hou)(hou)(hou)度(du)(du)(du)(du)(du)靶(ba)(ba)丸(wan)(wan)殼(ke)層(ceng)(ceng)厚(hou)(hou)(hou)(hou)(hou)(hou)度(du)(du)(du)(du)(du)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)白(bai)(bai)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)反(fan)(fan)射(she)(she)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)譜(pu)(pu)(pu)測(ce)量(liang)(liang)，可采用紫外(wai)的(de)(de)(de)(de)(de)(de)(de)寬譜(pu)(pu)(pu)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)源(yuan)和(he)光(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)(guang)譜(pu)(pu)(pu)探測(ce)器(qi)提升其探測(ce)厚(hou)(hou)(hou)(hou)(hou)(hou)度(du)(du)(du)(du)(du)下限。工(gong)廠(chang)膜厚(hou)(hou)(hou)(hou)(hou)(hou)儀推薦

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